[发明专利]一种用于化学机械研磨的抛光液

权利要求书

1、一种用于化学机械研磨的抛光液，含有水、研磨颗粒和氧化剂，其特征是，所述的氧化剂同时含有硝酸盐和金属盐，硝酸盐的阳离子为金属离子或非金属离子，当硝酸盐的阳离子为金属离子时，所述金属盐的阳离子不同于所述硝酸盐的阳离子。

2、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的硝酸盐为选自主族及副族元素的可溶性的硝酸盐中的一种或多种。

3、根据权利要求2所述的抛光液，其特征是，所述的硝酸盐为选自硝酸铵、硝酸钾和硝酸季铵盐中的一种或多种。

4、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的硝酸盐的含量为重量百分比0.02％～10％。

5、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的金属盐为选自金属的硝酸盐、磷酸盐、盐酸盐、碳酸盐、硫酸盐、磺酸盐、氯酸盐、高氯酸盐、碘酸盐、高碘酸盐、溴酸盐、铬酸盐、重铬酸盐、锰酸盐和高锰酸盐中的一种或多种。

6、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的金属盐为选自Ag，Co，Cr，Cu，Fe，Mo，Mn，Nb，Ni，Os，Pd，Ru，Sn，Ti，K，Na和V的盐类中的一种或多种。

7、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的金属盐的含量为重量百分比0.02％～2％。

8、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的硝酸盐的含量为0.02～10％，同时金属盐的含量为0.02～2％，所述百分比为重量百分比。

9、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的研磨颗粒为选自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂和Si₃N₄中的一种或多种。

10、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的研磨颗粒的粒径为30～200nm。

11、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的研磨颗粒的含量为重量百分比0.1％～10％。

12、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的抛光液还含有杀菌剂和表面活性剂中的一种或多种。

13、根据权利要求1所述的抛光液，其特征是，所述的抛光液的pH值为1～7。

14、根据权利要求13所述的抛光液，其特征是，所述的抛光液的pH值为2～5。