[发明专利]光刻照明装置及照明方法有效

专利信息
申请号: 200810042099.6 申请日: 2008-08-27
公开(公告)号: CN101364048A 公开(公告)日: 2009-02-11
发明(设计)人: 郭勇 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B27/00;G02F1/13
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 光刻 照明 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻照明装置,按光束传播的方向依次包括:

光源系统,用以产生照射光束;

空间光调制系统,包括空间光调制器和控制设备;

匀光系统,用于控制照射光束;

掩模;

其特征在于:所述光源系统发出照射光束,经过所述空间光调制器、匀光系统,照射所述掩模;

其中,所述空间光调制器是液晶空间光调制器。

2.根据权利要求1所述的光刻照明装置,其特征在于:所述液晶空间光调制器包括两个以上独立可寻址像素,每个所述像素由单个分立元件构成。

3.根据权利要求2所述的光刻照明装置,其特征在于:所述分立元件包括电光材料层和有选择的向电光材料施加电压的电极。

4.根据权利要求1所述的光刻照明装置,其特征在于:所述控制设备包括驱动装置和控制计算机,所述驱动装置与控制计算机之间可以进行实时通信。

5.根据权利要求4所述的光刻照明装置,其特征在于:所述控制计算机的优化计算结果通过驱动装置加载到所述空间光调制器的有效像素上。

6.根据权利要求1所述的光刻照明装置,其特征在于:所述空间光调制器为离线控制或在线控制。

7.一种光刻照明装置,按光束传播的方向依次包括:

光源系统,用以产生照射光束;

空间光调制系统,包括空间光调制器和控制设备,用于产生光瞳;

匀光系统,包括光瞳形状控制元件、光束整形元件和聚光元件;

其特征在于:所述光源系统产生照射光束通过所述空间光调制系统形成光瞳,并经过所述光瞳形状控制元件、光束整形元件和聚光元件成像,所述空间光调制器是液晶空间光调制器。

8.根据权利要求7所述的光刻照明装置,其特征在于:所述光瞳形状控制元件包括:变焦透镜组和旋转三棱镜。

9.根据权利要求7所述的光刻照明装置,其特征在于:所述光束整形元件是微透镜阵列或石英棒。

10.一种使用权利要求1所述装置的光刻照明方法,其特征在于,包括如下步骤:

(1)根据掩模图案确定最优化的照明光瞳形貌;

(2)依据优化算法,优化设计空间光调制器的每一像素的相位调制信息;

(3)将优化设计好的相位图装载在空间调制器的控制单元;

(4)控制单元将相位分布转换为对应电压,并寻址加到对应的空间光调制器的像素上;

(5)衍射光线在变焦透镜组出瞳产生所需的光瞳形貌。

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