[发明专利]用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法

权利要求书

1.一种用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征在于：

首先在氧化硅基片上旋涂光刻胶，经过曝光显影后露出二氧化硅窗口，刻蚀二氧化硅；

其次，以二氧化硅为掩膜刻蚀硅形成倒四棱锥图形；

接着溅射金属导电层，然后电镀金属层；

再去除电镀的金属倒四棱锥底端，开出微流道；

最后去除硅，得到异平面金属空心微针。

2.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针的制作方法，其特征是，所述去除电镀的金属倒四棱锥底端，开出微流道，是采用以下三种方式中的任意一种：

a)采用氢氧化钾溶液去除背面部分硅，直至露出金属微针高度60μm；利用剩余硅作为掩膜，采用镍刻蚀液去除刻蚀微针的裸露部分，当刻蚀掉微针顶端后，就开出微流道；

b)采用氢氧化钾溶液去除背面部分硅的厚度为20μm，露出金属微针顶部；采用机械打磨抛光方法从背面去除材料，厚度为20μm，当打磨掉微针顶端后，开出微流道；

c)采用机械打磨抛光方法从背面去除材料，厚度为120μm，当打磨掉微针顶端后，开出微流道。

3.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征是，所述基片为(100)面的双抛氧化硅片。

4.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征是，所述电镀金属层的金属，是指金属镍、不锈钢、金、钛中的一种。

5.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征是，所述电镀金属层，其厚度为5μm-100μm。

6.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征是，所述刻蚀硅形成倒四棱锥图形，是指刻蚀出深度为200μm-500μm的硅倒四棱锥硅槽。

7.根据权利要求1所述的用于透皮给药的异平面金属空心微针制作方法，其特征是，所述异平面金属空心微针，是指中空的四棱锥金属针。