[发明专利]反应室的清洁方法有效
| 申请号： | 200810042802.3 | 申请日： | 2008-09-11 |
| 公开（公告）号： | CN101670345A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 王炎雷 | 申请（专利权）人： | 和舰科技（苏州）有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 上海天翔知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘粉宝 |
| 地址： | 215025江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反应 清洁 方法 | ||
1.一种反应室的清洁方法，其特征在于，包括：
进行一第一清洁步骤，包括将一含氟气体、一含氧气体及一含氯气体通入所述反应室，其中所述含氟气体不包括含硫的氟化物，且其中在进行所述第一清洁步骤时，所述反应室的压力先设定为介于60～90毫托之间，再设定为介于10～20毫托之间；以及
进行一第二清洁步骤，仅包括将O2通入所述反应室。
2.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氟气体包括一氟碳化合物。
3.如权利要求2所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述氟碳化合物包括C2F6、CF4或C4F8。
4.如权利要求2所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述氟碳化合物中的部份氟原子被氢原子取代。
5.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氟气体包括一氟氮化合物。
6.如权利要求5所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述氟氮化合物包括NF3。
7.如权利要求5所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述氟氮化合物中的部份氟原子被氢原子取代。
8.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氧气体包括CO2、N2O或O2。
9.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述第一清洁步骤的压力不小于所述第二清洁步骤的压力。
10.如权利要求9所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述第二清洁步骤设定所述反应室的压力介于10～20毫托之间。
11.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氟气体的流量介于100～150sccm之间。
12.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氧气体的流量介于100～300sccm之间。
13.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述第二清洁步骤的O2的流量介于100～200sccm之间。
14.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，进一步包括进行一第三清洁步骤，其包括将Cl2通入所述反应室。
15.如权利要求14所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述第三清洁步骤设定所述反应室的压力介于10～20毫托之间。
16.如权利要求14所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述第三清洁步骤的Cl2的流量介于150～200sccm之间。
17.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述反应室包括一顶部电源与一底部电源，且所述方法还包括：
设定所述顶部电源为介于700～1100瓦之间；以及
设定所述底部电源为0瓦。
18.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氯气体包括Cl2。
19.如权利要求1所述的反应室的清洁方法，其特征在于，所述含氯气体的流量介于20～40sccm之间。
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