[发明专利]一种采用二氧化碳激光直接钻盲孔的方法有效

专利信息
申请号: 200810042935.0 申请日: 2008-09-12
公开(公告)号: CN101372071A 公开(公告)日: 2009-02-25
发明(设计)人: 杨宏强;孙成洲;黄伟 申请(专利权)人: 上海美维科技有限公司;上海美维电子有限公司
主分类号: B23K26/38 分类号: B23K26/38;B23K26/06
代理公司: 上海开祺知识产权代理有限公司 代理人: 竺明
地址: 201600上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 采用 二氧化碳 激光 直接 钻盲孔 方法
【权利要求书】:

1.一种采用二氧化碳激光直接钻盲孔的方法,采用两个或两个以上的不同光圈进行激光直接钻孔,即双光圈或多光圈模式;

1)根据要加工孔的孔径大小,选定一个光圈,控制激光脉冲斑点的尺寸,用一个脉冲烧蚀加工板板面上的铜层,使铜层形成一开口;

2)再选定另一个光圈,改变激光脉冲斑点的尺寸,使得该尺寸小于步骤1)中激光脉冲斑点的尺寸,采用一个或多个脉冲烧蚀加工板板面上已经开口的铜层下的介质层,至此,加工板上形成一盲孔。

2.如权利要求1所述的采用二氧化碳激光直接钻盲孔的方法,其特征是,步骤2)采用更多的光圈,选用的光圈比前次的光圈尺寸小,通过控制激光脉冲斑点的尺寸烧蚀介质层,直至第二层铜面之上的介质层完全烧蚀干净。

3.如权利要求1所述的采用二氧化碳激光直接钻盲孔的方法,其特征是,步骤2)中加工单个孔,或加工板面某个区域内的孔,或加工完毕整个板面的孔。

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