[发明专利]光刻机透镜像差的检测装置及其方法

权利要求书

1.一种光刻机透镜像差检测装置，其特征是：所述装置包括：

一入射光发生装置，发射入射光；

一成像透镜，选取所述光刻机的主透镜；

一光栅和一硅片平台，分别放置在所述透镜的光路两侧；

一检测器，集成在所述硅片平台上，测量通过所述透镜的折射光在所述硅片平台上形成的焦点的位置、形状、大小和焦距。

2.根据权利要求1所述的光刻机透镜像差检测装置，其特征是：以所述光栅的中心为原点建立一个三维坐标系，其中的X轴、Y轴所形成的XY平面与所述透镜、所述硅片平台呈平行位置。

3.根据权利要求2所述的光刻机透镜像差检测装置，其特征是：所述光栅的中心、所述透镜的中心、所述硅片平台的中心均在所述三维坐标系的Z轴上。

4.根据权利要求2所述的光刻机透镜像差检测装置，其特征是：所述光栅沿所述三维坐标系的X轴、Y轴、Z轴自由转动。

5.根据权利要求4所述的光刻机透镜像差检测装置，其特征是：所述光栅为透射光栅或反射光栅，所述反射光栅包括闪耀光栅。

6.一种如权利要求1所述的光刻机透镜像差检测装置对光刻机透镜像差进行检测的方法，其特征是：所述方法包括如下步骤：

第1步，开启入射光发生装置，入射光照射到光栅上，通过光栅的衍射光或反射光照射到透镜上，通过透镜的折射光照射到硅片平台上；

第2步，调整所述硅片平台和所述透镜的距离、位置，直至所述折射光在所述硅片平台上形成焦点；

第3步，所述硅片平台上集成的检测器测量所述焦点的位置、形状、大小和焦距并判断是否符合要求；

第4步，沿X轴、Y轴和/或Z轴转动所述光栅，使所述衍射光或反射光照射到所述透镜的不同位置，重复第1步至第4步。

7.根据权利要求6所述的光刻机透镜像差检测装置对光刻机透镜像差进行检测的方法，其特征是：所述方法的第4步中，所述衍射光或反射光至少照射到所述透镜的所有待测位置；所述方法的第3步中，所述检测器至少测量并判断通过所述透镜的所有待测位置的焦点的形状、大小和焦距。

8.根据权利要求6所述的光刻机透镜像差检测装置对光刻机透镜像差进行检测的方法，其特征是：所述方法的第1步中，通过光栅的衍射光或反射光的最强光强、次强光强或再次强光强照射到透镜上，通过透镜形成折射光。