[发明专利]集成电路中的电感及制作方法

权利要求书

1.一种集成电路中电感的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)在介质层上淀积一层金属；

2)采用光刻工艺定义出电感的图形；

3)进行金属层刻蚀，去除光刻胶，形成金属线圈；

4)接着淀积介质层，并在介质层上形成通孔；

5)填充通孔的填充金属；

6)重复步骤1)至步骤5)以增加电感的层数，直到形成最后一层金属线圈。

2.根据权利要求1所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，步骤1)中在介质层上淀积的金属为铝。

3.根据权利要求1所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，步骤5)中通孔的填充金属为钨。

4.根据权利要求1所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，步骤2)中的电感图形由版图确定。

5.根据权利要求1所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，在步骤1)之前先淀积一层蚀刻阻挡层，在步骤6)完成电感的制作之后，还包括以下步骤：

7)在最后一层金属线圈上淀积一层介质层；

8)采用光刻工艺定义磁芯通孔；

9)刻蚀磁芯通孔直至蚀刻阻挡层，并去除光刻胶；

10)填充磁芯的金属，形成集成电路电感中的磁芯。

6.根据权利要求5所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，在集成电路电感金属线圈中的不同位置重复步骤8)至步骤10)，形成集成电路电感金属线圈中多个并行的磁芯。

7.根据权利要求5所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，步骤10)中填充磁芯的金属为钴。

8.根据权利要求5所述的集成电路中电感的制作方法，其特征在于，步骤8)中的磁芯通孔由版图确定。

9.一种集成电路中的电感，其特征在于，包含多层相互平行的金属线圈，相邻金属线圈通过连接接触孔相连接。

10.根据权利要求9所述的集成电路中的电感，其特征在于，金属线圈中包括一个或多个磁芯。