[发明专利]超薄石墨片作衬底的碲化镉太阳电池无效
申请号: | 200810044295.7 | 申请日: | 2008-04-28 |
公开(公告)号: | CN101267007A | 公开(公告)日: | 2008-09-17 |
发明(设计)人: | 张静全;雷智;冯良桓;蔡亚平;武莉莉;李卫;黎兵;郑家贵 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | H01L31/045 | 分类号: | H01L31/045;H01L31/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 610065四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 超薄 石墨 衬底 碲化镉 太阳电池 | ||
1、一种石墨片作衬底的碲化镉薄膜太阳电池结构:石墨片衬底的厚度为50~500微米,结构是石墨片/p-CdTe/n-CdS/TCO/Al,其特征是首先在石墨片上沉积一层铜,然后进行热处理,再沉积一层碲,然后以此进行了处理的石墨片作为衬底依次沉积碲化镉薄膜、硫化镉薄膜、透明导电氧化物薄膜、栅状铝电极,得到碲化镉太阳电池。
2、如权利要求1所述的碲化镉薄膜太阳电池的结构,其特征是在石墨片上沉积的铜层厚度为50~200纳米。
3、如权利要求1所述的碲化镉薄膜太阳电池的结构,其特征是沉积了铜层的石墨片的热处理条件为:200~300℃,20~40分钟。
4、如权利要求1所述的碲化镉薄膜太阳电池的结构,其特征是在进行了热处理的石墨片上沉积的碲层厚度为20~100纳米。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学,未经四川大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810044295.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:多相电机变频调速器
- 下一篇:半球形介电弹性体驱动器的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的