[发明专利]大尺寸无核心YAG系列激光晶体的生长装置及其生长方法有效
申请号: | 200810045574.5 | 申请日: | 2008-07-16 |
公开(公告)号: | CN101338453A | 公开(公告)日: | 2009-01-07 |
发明(设计)人: | 周世斌;汤海涛;罗文科;宋玉玲 | 申请(专利权)人: | 成都东骏激光有限责任公司 |
主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B15/00 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王芸;吴彦峰 |
地址: | 611630四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 尺寸 核心 yag 系列 激光 晶体 生长 装置 及其 方法 | ||
1.一种大尺寸无核心YAG系列激光晶体的生长方法,该方法采用的生长装置包括通过氧化铝垫片(19)连接电极板(16)的托盘(15),以及置于托盘(15)上的钼侧保温屏(10、11、12),钼侧保温屏(10、11、12)上端设有钼上保温屏(5、6、7),钼侧保温屏(12)内侧装有电阻加热器(13),电阻加热器(13)直接与电极板(16)连接,钼埚托(9)通过石墨接头(18)与单晶炉的下传动系统连接,石墨接头(18)和钼埚托(9)之间设有钼台罩(17),钼埚托(9)上设有钼坩埚(8),钼坩埚(8)内装有熔体(4),钼坩埚(8)直径为90~130mm,钼坩埚(8)的高度为直径的1/2~3/4,电阻加热器(13)设置在钼坩埚(8)的周围,钼坩埚(8)与电阻加热器(13)之间的径向间距为5~12mm,电阻加热器(13)和钼侧保温屏(12)之间还设有内屏蔽筒(14),钼坩埚(8)上方设有钼籽晶杆(1),钼籽晶杆(1)下端装有籽晶(2),籽晶(2)下端位于熔体(4)上方,且钼籽晶杆(1)、籽晶(2)均位于钼上保温屏(5、6、7)的中孔内侧,钼上保温屏(5、6、7)的中孔直径为晶体(3)直径的1.5~2倍;其特征在于,该方法包括如下步骤:
第一步,配料,将预配制的高纯原料氧化钇Y2O3>99.995%、氧化钕Nd2O3>99.995%、氧化铝Al2O3>99.995%、氧化铈CeO2>99.9%、氧化铽Tb2O3>99.9%、氧化镱Yb2O3>99.995%在1000-1250℃温度下烘烧1-3小时,再按需制作的相应YAG系列激光晶体及设计要求进行称量配制、称量;
第二步,称好的原料经研磨混合预压成型,将预压成型的原料置于钼坩埚(10)中;抽真空,当炉内气压小于10-3Pa时,充保护气氛,充气完毕,升温,待原料充分熔化后,恒温3~5小时,逐渐下降籽晶,籽晶方向为<111>±5°或<100>±5°或<110>±5°,待籽晶接触熔体,调整熔体温度直到籽晶直径收缩1~2mm,调整好后,恒温1小时后,开始晶体生长,晶体生长分为如下四个阶段:第一阶段:放肩、凸界面等径生长
晶体放肩角度45°~70°,凸界面等径段的晶体直径控制为坩埚直径的1/3~1/2范围内,提拉速度为0.5~2mm/小时,转速8~20转/分;晶体直径缓慢放肩到比要求直径小2~3mm时,减小降温速率,进行转肩,进入凸界面等径生长,直到凸界面等径长度5~10mm;
第二阶段:人工控制界面翻转
a.停止提拉,即把晶体提拉速度降为零;
b.重置转速:80~150rpm;转速的瞬时起伏不得超过±0.5r/min;
c.调温,根据晶体直径及热场的不同,调整功率,使晶体平界面直径与凸界面晶体等径相差不得超过±1.5mm;
d.2~3次下沉晶体,每次下沉0.5mm;
第三阶段:平界面等径生长
晶体的提拉速度1.0~3.0mm/h,转速80~150转/分,调整加热功率,使平界面等径段晶体直径的偏差不得超过±2.5mm,待平界面等径的长度达到100~160mm,上摇晶体8~15mm;
第四阶段:降温
对晶体降温,降至室温5~8小时后,取出晶体。
2.根据权利要求1所述的大尺寸无核心YAG系列激光晶体的生长方法,其特征在于:所述保护气氛的选择如下:
生长纯YAG、Nd:YAG、Yb:YAG采用中性的保护气氛Ar;
生长(Nd、Ce):YAG、Ce:YAG、(Nd、Ce、Tb):YAG采用还原性的保护气氛Ar+H2。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都东骏激光有限责任公司,未经成都东骏激光有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810045574.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。