[发明专利]一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法及其装置无效
申请号: | 200810047420.X | 申请日: | 2008-04-20 |
公开(公告)号: | CN101261116A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
发明(设计)人: | 骆清铭;王建岗;曾绍群;肖青 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01N21/45 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 厚度 折射率 光学 测量方法 及其 装置 | ||
1、一种薄膜厚度和折射率的光学测量方法,其步骤包括:
(a)将宽带光源出射的光通过分光棱镜分成两束光,然后分别通过一个反射镜反射,再由分光棱镜将反射后的两束光汇聚成一束,形成干涉光路,产生干涉信号,再探测干涉信号的光谱信息,并将光谱信息进行傅立叶变换,得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S1;
(b)将待测量样品薄膜放置在上述任一反射镜前,重复步骤(a),得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S2;
(c)当待测量样品的折射率已知时,利用光程差信息S1和S2,得到待测量样品的厚度;
当待测量样品的折射率未知时,将待测量样品旋转一个角度后放置到同一反射镜前,再重复步骤(a),得到产生干涉信号的二光路的光程差信息S3;根据光程信息S1、S2和S3,计算获得薄膜的折射率和薄膜厚度。
2、实现权利要求1所述的方法的装置,其特征在于:它包括宽带光源(9),干涉组件(10),频域探测装置(11)和数据处理器(12);
宽带光源(9),干涉组件(10)和频域探测装置(11)位于同一光路上,数据处理器(12)与频域探测装置(11)电连接;
宽带光源(9)出射的光经干涉组件(10)产生干涉信号,再经过频域探测装置(11),探测信号光的光谱信息,并将光谱信息传送给数据处理器(12),数据处理器(12)对获得的数据进行处理。
3、根据权利要求2所述的装置,其特征在于:干涉组件(10)包括第一分光元件(13),第一、第二反射镜(14、15);第一、第二反射镜(14、15)的反射面分别与从第一分光元件(13)出射的两束光方向垂直。
4、根据权利要求2所述的装置,其特征在于:干涉组件(10)包括第一、第二分光元件(13、18)以及第一、第二反射镜(14、15);
光束落在第一、第二分光元件(13、18)、第一、第二反射镜(14、15)上的位置位于光束构成的四边形的四个角上。
5、根据权利要求4所述的装置,其特征在于:第一、第二分光元件(13、18),第一、第二反射镜(14、15)的反射面的中心位于平行四边形的四个角上。
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