[发明专利]深沟型气升推流立体循环式倒置A2O整体合建氧化沟

说明书

技术领域

本发明涉及污、废水处理设施-氧化沟，尤其涉及一种深沟型气升推流立体循环式倒置A²O整体合建氧化沟。

背景技术

氧化沟是具有完全混合和整体推流水力学特征的延时曝气活性污泥法水处理工艺，由于其独特的“封闭循环流动”的水力学特性以及较长的泥龄和较低的有机负荷，使其成为出水水质好、抗冲击能力强、运行稳定、流程简单，、便于维护、污泥排量低可直接脱水以及一次性建设投资和运行费用较低的水处理工艺，在城市污水及工业废水处理中得到广泛应用。

以水下推流器配合微孔曝气器技术为代表的深沟型氧化沟技术近年迅速兴起，在继承了传统氧化沟技术优势的前提下，较有成效的解决了氧化沟占地较大问题，同时，较高的氧传质效果，有效提高了充氧设备的利用效率。

以固液分离池、厌氧池、缺氧池等功能池与氧化沟主沟合建在同一构筑物内的整体合建式氧化沟技术，以多种沟型和各种功能池不同的组合方式应对复杂的被处理水水质，在去除碳源污染物的同时，有效提升了脱氮除磷处理效果。整体合建式氧化沟的建设、运行非常经济，近年来已被广泛应用。

倒置A²O方法是为进一步提升脱氮除磷效果，在传统A²O方法的基础上，将生化系统的厌氧段置于缺氧段之后，并通过向两段分配进水的措施，使反硝化过程优先获得碳源，增强脱氮效果和使厌氧段混合液直接进入好氧段，提升除磷效果的工艺技术。由于它合理分配了原水的碳源营养物质而产生良好的脱氮除磷效果，将成为城镇污水集中处理设施建设的首选工艺技术。

目前，氧化沟技术依然朝着充分挖掘和利用传统氧化沟水力学特性，以进一步减少占地和建设资金、进一步提高水处理效果尤其是除磷脱氮效果和进一步降低运行成本为目标的新沟型技术研究、高效节能设备研究以及运行维护简单节能方式研究等几个方面发展。

传统的氧化沟包括深沟型及整体合建式氧化沟，具有多种沟型和充氧、推流方式，但它们均是按照沟道路径在水平面上延水平方向循环流动。由于其“水平方向循环流态”和“延时曝气活性污泥方法”所必需的较大池容，氧化沟“占地大”的问题一直比较突出。目前，虽然以微孔曝气为充氧方式的氧化沟有效提高了氧化沟深度(如水深超过6米)，但再追求更高的氧化沟深度，其供氧设备和水下推流设备的装机和动力荷载均会非线性提高，因而降低了深沟型氧化沟的经济性。尤其在当前经济迅猛发展，人口增多，自然水体水质进一步恶化，淡水资源，土地资源及能源日趋紧张的形势下，以减少占地为目标的深沟型氧化沟技术的应用仍受到技术的限制和经济制约。解决氧化沟技术“出水水质好和占地面积大”的矛盾仍为污、废水处理领域的关注课题。

发明内容

本发明的主要目的在于针对上述问题，提供一种深沟型气升推流立体循环式倒置A²O整体合建氧化沟，建立包括供氧、水力流动和污泥、混合液大比例交换的完整生化系统，在创造出良好的缺氧环境、厌氧环境、好氧环境、固液分离环境，保证良好的出水水质尤其是脱氮除磷效果的前提下，达到减少占地、减少设备、简化操作、降低运行成本的效果。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种深沟型气升推流立体循环式倒置A²O整体合建氧化沟，包括内设缺氧区、厌氧区、设有微孔曝气器组的好氧区及固液分离区的倒置A²O整体合建氧化沟，其中固液分离区设于主沟前端，厌氧区设于主沟末端，两原水进水管分别安置在缺氧区和厌氧区的前端，其特征在于在主沟中下部设置了将主沟分为上、下两层沟道且前端与固液分离区保有距离、后端进入厌氧区的水平隔板；好氧区设于上层沟道；缺氧区设于下层沟道；在好氧区内设有n级(n≥1)由垂直于主沟侧墙平行设置的竖直进水挡水墙、出水挡水墙及位于其间的微孔曝气器组构成的下设进水口、上设出水口的曝气气升区，进水挡水墙及出水挡水墙的侧面均固定连接主沟侧墙，且出水挡水墙的底部固定连接在水平隔板上，在位于第一级曝气气升区内的水平隔板上设有若干个升流孔；好氧区内对应n级曝气气升区分为n级好氧反应区，并通过第一级曝气气升区的进水挡水墙与厌氧区邻接、通过第n级好氧反应区的出水挡水墙与固液分离区邻接；所述第一级曝气气升区的进水挡水墙与底部固定连接在水平隔板末端、侧面固定连接主沟侧墙并与其平行设置的隔板末端挡水墙构成厌氧区跌水槽，隔板末端挡水墙上方设有跌水槽进水口。

在所述的固液分离区内靠近主沟前端端墙的中下部设置排泥管。