[发明专利]掺氟硅铝玻璃基低温共烧陶瓷材料及其制备方法

权利要求书

1.一种掺氟硅铝玻璃基低温共烧陶瓷材料，其特征在于，各组分及其质量百分比为：

SiO₂：      20～80wt％

AlF₃：      10～50wt％

金属氟化物或氧化物调节剂：0～30wt％。

2.根据权利要求1所述的低温共烧陶瓷材料，其特征在于，所述的调节剂选自BaF₂、CaF₂、CaO、MgO、Al₂O₃、MgF₂、LiF或NaF中的一种或多种。

3.根据权利要求1或2所述的掺氟硅铝玻璃基低温共烧陶瓷材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)将分析纯的AlF₃·3H₂O于NH₄F的保护气氛下，在450～550℃煅烧1～2小时，得到无水AlF₃；

2)将步骤1)制备的无水AlF₃与SiO₂和调节剂按配比混合后，加入混合物重量1.5～2.5倍量的乙醇，研磨后烘干，再重新研磨成细粉后在1300～1400℃下熔制成液态玻璃，淬火、粉碎后过80目筛得到玻璃粉，加入玻璃粉重量1.5～2.5倍量的乙醇或水，球磨24～48小时，干燥后得到掺氟硅铝玻璃基低温共烧陶瓷材料。