[发明专利]平板玻璃基板减薄蚀刻槽无效
申请号: | 200810056267.7 | 申请日: | 2008-01-16 |
公开(公告)号: | CN101215100A | 公开(公告)日: | 2008-07-09 |
发明(设计)人: | 王乾旭;王道鹏;朱墨雨;朱斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;京东方(河北)移动显示技术有限公司;京东方现代(北京)显示技术有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人: | 刘芳 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平板玻璃 基板减薄 蚀刻 | ||
技术领域
本发明涉及终端显示产品制造领域,尤其是一种平板玻璃基板减薄蚀刻槽。
背景技术
随着电子信息产业的高速发展,显示产品进入一个崭新的阶段。人们对显示的追求也更加时尚化,超薄终端显示产品成为市场发展的一个主流。显示面板作为显示终端的核心部件,其薄型化是终端产品能否实现薄型化的关键。
目前,受限于前段制程,玻璃基板厂商所能提供的玻璃基板厚度最薄只能到0.5mm,而终端显示产品要求玻璃基板厚度已经达到了0.3mm甚至更薄。因此产生了平板玻璃基板减薄工艺,即将已成盒后的双面玻璃基板通过物理或化学方法去除一层而实现减薄。物理方法即机械研磨,其产能底、良品率低;化学方法即化学蚀刻,该方法蚀刻出来的玻璃基板需要达到厚度均匀、表面效果良好的要求。但是,上述技术方案中所使用的蚀刻槽的具体结构却未见公开。
发明内容
本发明的目的是提供一种平板玻璃基板减薄蚀刻槽,能够蚀刻出厚度均匀、表面效果良好的玻璃基板,从而达到平板玻璃基板减薄的技术要求。
为实现上述目的,本发明提供了一种平板玻璃基板减薄蚀刻槽,包括一槽体,所述槽体为长方体形罐体,槽体侧壁的上部开设有进液口,槽体侧壁的下部开设有抽液口,槽体底壁的中心处开设有排液口,槽体底壁上方设置有鼓泡板,所述鼓泡板上开设有均匀分布的圆形鼓泡孔。
因此,本发明通过槽体侧壁上开设的进液口与抽液口形成了底部抽液、顶部进液的主动循环模式,能够将蚀刻液从槽体的底部抽出从槽体的顶部回到槽体中,达到了蚀刻液均匀的目的,从而可以蚀刻出厚度均匀的玻璃基板;另外还通过槽体底壁上方设置的开设有均匀分布的圆形鼓泡孔的鼓泡板,能够促使蚀刻液更加均匀,而且还能够及时去除附着在玻璃表面的反应生成物,从而可以蚀刻出表面效果良好的玻璃基板。
附图说明
图1为本发明平板玻璃基板减薄蚀刻槽的实施例的立体结构示意图;
图2为图1的主视图;
图3为图1的俯视图。
附图标记说明:
10-槽体; 20-侧壁; 30-进液口;
40-抽液口; 50-底壁; 60-排液口;
70-鼓泡板; 71-鼓泡孔; 80-夹具;
21-前侧壁; 22-后侧壁; 23-左侧壁;
24-右侧壁。
具体实施方式
下面通过附图和实施例,对本发明的技术方案做进一步的详细描述。
本发明平板玻璃基板减薄蚀刻槽的实施例包括一长方体形罐体的槽体;槽体侧壁的上部开设有进液口,槽体侧壁的下部开设有抽液口,以供形成底部抽液、顶部进液的主动循环模式;槽体底壁的中心处开设有排液口,以供蚀刻完成后排放废弃的蚀刻液;槽体底壁上方设置有鼓泡板,鼓泡板上开设有均匀分布的圆形鼓泡孔,可以使得蚀刻液更加均匀,而且还能够及时去除附着在玻璃表面的反应生成物。
如图1、图2和图3所示,图1为本发明平板玻璃基板减薄蚀刻槽的实施例的立体结构示意图,图2为图1的主视图,图3为图1的俯视图。本实施例包括一槽体10,槽体10为长方体形罐体,槽体侧壁20的上部开设有进液口30,槽体侧壁20的下部开设有抽液口40,槽体底壁50向中心倾斜,该倾斜的中心处开设有排液口60,槽体底壁50上方设置有鼓泡板70,鼓泡板70上开设有均匀分布的圆形鼓泡孔71。进一步地,槽体10中还可以设置有用于固定玻璃基板的夹具80,该夹具80放入槽体10中具有固定位置,以满足平板玻璃基板减薄蚀刻槽的蚀刻流程。
本实施例中,通过槽体侧壁上开设的进液口与抽液口形成了底部抽液、顶部进液的主动循环模式,能够将蚀刻液从槽体的底部抽出从槽体的顶部回到槽体中,达到了蚀刻液均匀的目的,从而可以蚀刻出厚度均匀的玻璃基板;另外还通过槽体底壁向中心倾斜,使蚀刻产生的不溶物最大限度进行沉淀,减少了循环可能抽起的沉淀物重新附着玻璃基板表面而影响其表面效果现象的发生,从而可以蚀刻出表面效果良好的玻璃基板;另外又通过槽体底壁上方设置的开设有均匀分布的圆形鼓泡孔的鼓泡板,能够促使蚀刻液更加均匀,而且还能够及时去除附着在玻璃表面的反应生成物,从而可以蚀刻出表面效果良好的玻璃基板。
进一步地,槽体侧壁均匀缠绕有制冷盘管,用于吸收蚀刻过程中放热产生的热量,使温度稳定。
本实施例中,还可以采用过滤器替代上述倾斜的槽体底壁结构,而该过滤器能够循环过滤去除反应中生成的沉淀物质。
此外,本实施例中,还可以通过其他液体搅拌方式使蚀刻液更加均匀。
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