[发明专利]一种工艺终点控制方法和装置

权利要求书

1.一种工艺终点控制方法，其特征在于，该方法包括：

搜索光谱信号中的波峰或平地，将所述搜到的波峰或平地作为拐点；

所述波峰是指在其左右两侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度的光谱信号；所述平地是指在其左侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度，且其右侧连续一个以上的光谱信号强度只作符合要求的小幅波动的光谱信号；

根据所述搜索到的拐点，得到所述光谱信号的工艺终点时间，包括：

当所述搜索到的拐点为波峰时，紧邻所述拐点对应的时间点之后设置一满意时间；

判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均小于所述拐点的强度，如果是，则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间；

当所述搜索到拐点为平地时，紧邻所述拐点对应的时间点之后设置一满意时间；

判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均作符合要求的小幅波动，如果是，则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述搜索光谱信号中的波峰或平地之前，进一步包括：

对所述光谱信号进行滤波以及延时处理。

3.一种工艺终点控制装置，其特征在于，该装置包括：搜索单元以及确定单元；

所述搜索单元，用于搜索光谱信号中的波峰或平地，将所述搜索到的波峰或平地作为拐点；所述波峰是指在其左右两侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度的光谱信号；所述平地是指在其左侧连续一个以上的光谱信号强度均小于其自身强度，且其右侧连续一个以上的光谱信号强度只作符合要求的小幅波动的光谱信号；

所述确定单元，用于根据所述搜索单元搜索到的拐点，得到所述光谱信号的工艺终点时间；

其中，所述确定单元中进一步包括：设置子单元以及判断子单元；

所述设置子单元，用于在紧邻所述拐点对应的时间点之后设置一满意时间；

所述判断子单元，用于判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均小于所述拐点的强度，如果是，则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间；或者，判断所述满意时间内各时间点对应的光谱信号强度是否均作符合要求的小幅波动，如果是，则将所述拐点对应的时间点加上所述满意时间后对应的时间点作为所述光谱信号的工艺终点时间。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，该装置中进一步包括：

处理单元，用于对所述光谱信号进行滤波以及延时处理，并将所述经滤波及延时处理后的光谱信号发送给所述搜索单元。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述搜索单元中进一步包括：波峰搜索子单元以及平地搜索子单元；

所述波峰搜索子单元，用于搜索光谱信号中的波峰，将所述搜索到的波峰作为拐点；

所述平地搜索子单元，用于搜索光谱信号中的平地，将所述搜索到的平地作为拐点。