[发明专利]一种电感耦合线圈及采用该耦合线圈的等离子体处理装置

权利要求书

1.一种电感耦合线圈，其特征在于，包括三组直径不同且相互嵌 套的线圈绕组，所述三组线圈绕组中位于中间的线圈绕组的上表面高于 位于外侧和内侧的线圈绕组的上表面，且所述每一组线圈绕组包括至少 两个并联连接且相互嵌套对称分布的线圈分支，以便获得分布均匀的等 离子体。

2.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈分 支为平面结构。

3.根据权利要求2所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈分 支呈平面螺旋线的形状，所述螺旋线为阿基米德螺旋线或渐开线或涡状 线的形式。

4.根据权利要求2所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈分 支为大致同心圆的形状，并且所述同心圆中的每一圈包括多个弓形的弧 线段，和至少一个在弧线段之间延伸并连接的连接部分，所述弧线段分 别沿着所述同心圆延伸。

5.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈分 支为立体结构。

6.根据权利要求5所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述线圈分 支呈立体螺旋形状，且沿上升方向其螺旋线的直径相同或者直径渐小或 者直径渐大。

7.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述每一组 线圈绕组包括三个相互嵌套且对称分布的的线圈分支。

8.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述直径不 同且相互嵌套的线圈绕组的数量为3，并且中间绕组上表面的高度高于 最内圈绕组以及最外圈绕组上表面的高度。

9.根据权利要求8所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述最内圈 绕组的直径小于被加工晶片的直径，所述中间绕组的直径大致等于被加 工晶片的直径，所述最外圈绕组的直径大于被加工晶片的直径且小于介 质窗的尺寸。

10.根据权利要求1所述的电感耦合线圈，其特征在于，所述三组 线圈绕组彼此之间的连接方式为串联方式、并联方式以及混联方式。

11.一种等离子体处理装置，包括反应腔室，所述反应腔室的上 部设有介电窗，其特征在于，在所述介电窗的上方设置有如权利要求1 至10中任意一项所述的电感耦合线圈，所述电感耦合线圈通过射频匹 配器与射频电源连接，以便在反应腔室内得到分布均匀的等离子体。