[发明专利]一种地下厂房各洞室的连接结构及其施工方法有效
申请号: | 200810059698.9 | 申请日: | 2008-02-04 |
公开(公告)号: | CN101230581A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 鲍利发;戚海峰;吴喜艳;王慧锋 | 申请(专利权)人: | 中国水电顾问集团华东勘测设计研究院 |
主分类号: | E02D29/045 | 分类号: | E02D29/045;E04H5/02 |
代理公司: | 杭州九洲专利事务所有限公司 | 代理人: | 韩小燕 |
地址: | 310014浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 地下 厂房 各洞室 连接 结构 及其 施工 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种地下厂房各洞室的连接结构及其施工方法。适用于水利水电工程之地下厂房。
背景技术
地下厂房洞室群通常由几个主要洞室及附属洞室组成,各主要洞室之间通过附属洞室连接。主要洞室边墙大多不采用混凝土衬砌,而是采用喷锚等柔性支护方法,为了保证主要洞室长期运行的通风、采暖等要求,后期采用防潮墙与岩壁分开,防止岩壁产生潮湿的空气影响主要洞室的通风空调系统的使用效率。另外在防潮墙内利用框架梁设悬臂板作为排水沟来解决岩壁渗漏水问题。附属连接洞室因机电设备布置、交通和美观需要,一般均采用混凝土衬砌结构。附属连接洞室的衬砌施工一般先于主要洞室的楼板浇筑,其衬砌向主洞方向延伸从结构设计到施工均较困难,使得附属洞室的衬砌只能与岩壁喷层线齐平。附属连接洞室与主要洞室内楼板层的相互关系剖视图如图1、图2表示,两种情况均显示主要洞室的板梁结构与附属洞室的城门洞型混凝土衬砌间无法形成可供设置止水的交接面。附属洞室多为设备布置通道或者交通通道,故对各洞室间连接部位的防水、止水要求较高,由于地下洞室的岩壁因其特性无法做到滴水不漏(渗),岩壁水体会沿岩壁下渗影响连接部位机电设备的安全运行及交通方便。同时由于附属洞室的衬砌为城门洞型且只与岩壁喷层线齐平,给附属洞室与防潮墙间的连接段后期的建筑装修的平顺衔接带来困难,影响美观。因此主、附洞室的连接从结构、防水、施工和装修等方面均显得尤其重要。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:提供一种简单、合理、可靠的地下厂房各洞室的连接结构及其施工方法,旨在使各洞室间的衔接结构能够做到平顺、防水、便于后期建筑装修。
本发明所采用的技术方案是:一种地下厂房各洞室的连接结构,具有主要洞室和附属洞室,主要洞室的岩壁上有混凝土喷层,主要洞室与混凝土喷层间设置防潮墙,附属洞室内有混凝土衬砌,其特征在于:在主要洞室与附属洞室连接岔口两侧紧贴岩壁混凝土喷层布置边柱,边柱的边缘与混凝土衬砌及防潮墙外边线齐平,呈扁长型,在两边柱上位于附属洞室顶拱高程布置一异形梁,该梁的上边缘或下边缘优化为同附属洞室顶拱衬砌内边缘一致的曲线型,异形梁的梁宽等于主要洞室岩壁混凝土喷层与防潮墙外边线间的距离,在异形梁的顶部设置排水沟,在边柱与异形梁的组合和附属洞室内呈城门洞型混凝土衬砌间的交接面布设周圈止水带。
所述异形梁的边缘优化为同附属洞室顶拱衬砌内边缘一致的曲线型,利用边柱与异形梁的组合同附属洞室内的城门洞型混凝土衬砌间的充分交接面布设周圈止水带。
一种地下厂房各洞室连接结构的施工方法,其特征在于包括以下步骤:
1)在主要洞室与附属洞室连接岔口两侧紧贴岩壁混凝土喷层布置边柱,边柱的边缘与混凝土衬砌及防潮墙外边线齐平,边柱呈扁长型;
2)在两边柱上位于附属洞室顶拱高程布置一异形梁,该异形梁是将主要洞室之防潮墙下梁局部加大而成,局部加大区段的梁高应能实现异形梁与附属洞室衬砌顶拱有充分的交接面;
3)在边柱与异形梁的组合和附属洞室内呈城门洞型混凝土衬砌间的交接面布设周圈止水带;
4)在异形梁的顶部设置排水沟。
本发明另一种地下厂房各洞室连接结构的施工方法,其特征在于包括以下步骤:
1)在主要洞室与附属洞室连接岔口两侧紧贴岩壁混凝土喷层布置边柱,边柱的边缘与混凝土衬砌及防潮墙外边线齐平,边柱呈扁长型;
2)在两边柱上位于附属洞室顶拱高程布置一异形梁,该异形梁独立布置,异形梁与边柱的断面除满足与附属洞室内混凝土衬砌有充分的交接面外,还应能承受异形梁上面防潮墙的荷载;
3)在边柱与异形梁的组合和附属洞室内呈城门洞型混凝土衬砌间的交接面布设周圈止水带;
4)在异形梁的顶部设置排水沟。
本发明的有益效果是:本技术方案结合利用主、附洞室结构布置设计,工程措施简单,施工方便,连接结构合理、简单、可靠,使各洞室的连接实现了平顺衔接、防水止水、便于后期建筑装修。
附图说明
图1是本发明背景技术一种连接结构的竖向剖面图。
图2是本发明背景技术另一种连接结构的竖向剖面图。
图3是本发明的平面图。
图4是对图1所示的背景技术作出改进,为图3的A-A向剖面图。
图5是图4的B-B向剖面图。
图6是对图2所示的背景技术作出改进,为图3的A-A向剖面图。
图7是图6的B-B向剖面图。
具体实施方式
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