[发明专利]碳/碳化硅与铌或铌合金用复合箔片钎焊的方法有效

专利信息
申请号: 200810064135.9 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101239420A 公开(公告)日: 2008-08-13
发明(设计)人: 张丽霞;刘玉章;冯吉才 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B23K20/16 分类号: B23K20/16;B23K20/02;B23K20/24
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 代理人: 金永焕
地址: 150001黑龙江*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 碳化硅 合金 复合 钎焊 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及碳/碳化硅与铌或铌合金的钎焊方法。

背景技术

碳/碳化硅复合材料是一种新型超高温结构材料,在航空航天、武器装备等领域具有广阔的应用前景。

名称为“碳/碳化硅复合材料瞬间液相扩散焊接方法(中国专利号:ZL200510096313.2,申请日:2005年11月08日)”的专利中,所用连接方法只适用于碳/碳化硅复合材料本体的连接,而且工艺复杂;由于碳/碳化硅复合材料与金属热物理性能差异较大,连接后接头存在较高的残余应力,因此碳/碳化硅复合材料与金属的连接要比碳/碳化硅复合材料本体的连接困难,接头的抗剪强度低,在室温至500℃时的抗剪强度仅为12~104MPa,而且连接后的接头无法在500℃以上的温度下应用。

发明内容

本发明目的是为了解决现有连接方法只适用于碳/碳化硅复合材料本体的连接,且存在工艺复杂、接头的抗剪强度低及连接后的接头无法在500℃以上的温度下应用的问题,而提供一种碳/碳化硅与铌或铌合金用复合箔片钎焊的方法。

本发明中碳/碳化硅与铌或铌合金用复合箔片钎焊的方法按以下步骤实施:一、对Ti箔片、Ni箔片、碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金表面进行清理;二、Ti箔片和Ni箔片交替叠放形成2n层箔片的复合箔,然后按碳/碳化硅复合材料、复合箔及铌或铌合金的结构进行夹装,其中复合箔一端的Ti箔片与铌或铌合金接触,复合箔另一端的Ni箔片与碳/碳化硅复合材料接触;三、将夹装好的焊件置于真空炉中,以0.001~0.1MPa压力固定焊件,然后在真空度为1×10-3~6×10-3Pa的真空条件下,以10~30℃/min的速度升温到1100~1300℃,保温5~30min,再以5~20℃/min的速率降温到300~500℃后随炉冷却至室温,即完成钎焊;步骤二中1≤n≤X;步骤二中Ti箔片和Ni箔片厚度比为1~2∶1,复合箔的长与宽均比碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金的待焊表面大1~3mm。

本发明实现了碳/碳化硅复合材料与铌(Nb)或铌合金的直接反应钎焊连接,以较高的升温和降温速率将碳/碳化硅复合材料与铌或铌合金连接在一起,工艺过程简单,生产效率高。升温过程中,Ti-Ni形成反应液相,保温过程中Nb向反应液相中溶解扩散,形成Ni-Ti-Nb三元合金,合金中的Nb和Ti与碳/碳化硅反应形成冶金结合,同时Ni-Ti-Nb三元合金液相在毛细作用下向碳/碳化硅复合材料的孔隙中渗入,冷却凝固后孔隙中的合金对碳/碳化硅形成钉轧,获得较高的连接强度;接头的抗剪强度高,在室温至600℃时的抗剪强度为70~120MPa,在800℃时接头的抗剪强度高达50~70MPa,适合应用到高温技术领域。

具体实施方式

具体实施方式一:本实施方式碳/碳化硅与铌或铌合金用复合箔片钎焊的方法按以下步骤实施:一、对Ti箔片、Ni箔片、碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金表面进行清理;二、Ti箔片和Ni箔片交替叠放形成2n层箔片的复合箔,然后按碳/碳化硅复合材料、复合箔及铌或铌合金的结构进行夹装,其中复合箔一端的Ti箔片与铌或铌合金接触,复合箔另一端的Ni箔片与碳/碳化硅复合材料接触;三、将夹装好的焊件置于真空炉中,以0.001~0.1MPa压力固定焊件,然后在真空度为1×10-3~6×10-3Pa的真空条件下,以10~30℃/min的速度升温到1100~1300℃,保温5~30min,再以5~20℃/min的速率降温到300~500℃后随炉冷却至室温,即完成钎焊;步骤二中1≤n≤X;步骤二中Ti箔片和Ni箔片厚度比为1~2∶1,复合箔的长与宽均比碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金的待焊表面大1~3mm。

本实施方式中碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金的待焊表面相等。

本实施方式中所用铌合金可以为现有各种型号的铌合金。

具体实施方式二:本实施方式与具体实施方式一的不同是步骤一中对Ti箔片、Ni箔片、碳/碳化硅复合材料及铌或铌合金表面进行清理采用600#砂纸磨平,然后放入丙酮溶液中用超声波清洗,再晾干。其它步骤及参数与具体实施方式一相同。

具体实施方式三:本实施方式与具体实施方式一的不同是步骤二中复合箔厚度为150~400μm。其它步骤及参数与具体实施方式一相同。

具体实施方式四:本实施方式与具体实施方式一的不同是步骤二中复合箔厚度为200μm。其它步骤及参数与具体实施方式一相同。

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