[发明专利]在CMOS传感器中对CFA进行插值的方法及电路无效
申请号: | 200810065215.6 | 申请日: | 2008-01-25 |
公开(公告)号: | CN101227621A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 王宏斌 | 申请(专利权)人: | 炬力集成电路设计有限公司 |
主分类号: | H04N9/04 | 分类号: | H04N9/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 519085广东省珠海市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | cmos 传感器 cfa 进行 方法 电路 | ||
1.一种在互补金属氧化物半导体CMOS传感器中对颜色滤波阵列CFA进行插值的方法,其特征在于,该方法包括:
对在Bayer型CFA滤波后得到图像中的像素点进行绿色预插值,得到像素点的绿色值;
对当前进行插值的像素点,在邻域内根据该像素点的绿色值和所需插值颜色的像素点的绿色值的相关性,将确定最相关的所需插值颜色的像素点的颜色值作为该像素点的插值颜色,进行插值得到彩色像素点。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述对像素点进行绿色预插值,得到像素点的绿色值为:
对包含蓝色值或红色值的像素点的邻域内的包含绿色值的像素点的绿色值进行平均,将平均值作为包含蓝色值或红色值的像素点的绿色值;
将包含绿色值的像素点的绿色值作为该包含绿色值的像素点的插值。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定最相关的所需插值颜色的像素点的过程为:
将领域内的各个所需插值颜色的像素点的绿色值分别和该像素点的绿色值进行差值计算,将邻域内与该像素点差值最小的所需插值颜色的像素点确定为最相关的所需插值颜色的像素点。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将确定最相关的所需插值颜色的像素点的颜色值作为该像素点的插值颜色的过程为:
当前进行插值的像素点为包含蓝色值的像素点时,将该像素点的绿色值和邻域内的包含红色值的像素点的绿色值进行相关性判断,得到与该像素点的绿色值最接近的包含红色值的像素点作为最相关的所需插值颜色的像素点;
将得到与该像素点的绿色值最接近的包含红色值的像素点包含的红色值以及当前进行插值的像素点进行绿色预插值计算得到的绿色值作为当前进行插值的像素点的插值颜色。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将确定最相关的所需插值颜色的像素点的颜色值作为该像素点的插值颜色的过程为:
当前进行插值的像素点为包含红色值的像素点时,将该像素点的绿色值和邻域内的包含蓝色值的像素点的绿色值进行相关性判断,得到与该像素点的绿色值最接近的包含蓝色值的像素点作为最相关的所需插值颜色的像素点;
将得到与该像素点的绿色值最接近的包含蓝色值的像素点包含的蓝色值以及当前进行插值的像素点进行绿色预插值计算得到的绿色值作为当前进行插值的像素点的插值颜色。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将确定最相关的所需插值颜色的像素点的颜色值作为该像素点的插值颜色的过程为:
当前进行插值的像素点为包含绿色值的像素点时,将该像素点的绿色值和邻域内的包含蓝色值的像素点的绿色值以及包含红色值的像素点的绿色值分别进行相关性判断,分别得到与该像素点的绿色值最接近的包含红色值的像素点以及包含蓝色值的像素点作为最相关的所需插值颜色的像素点;
将得到与该像素点的绿色值最接近的包含红色值的像素点和包含蓝色值的像素点分别包含的红色值以及蓝色值作为当前进行插值的像素点的插值颜色。
7.如权利要求1~6中任意一项所述的权利要求,其特征在于,所述进行绿色预插值的图像为5像素点×5像素点的图像。
8.一种在CMOS传感器中对CFA进行插值的电路,其特征在于,该电路包括:
缓冲器,用于暂存进行插值的图像;
颜色判别模块,用于提取缓冲器暂存图像中的当前进行插值的像素点以及邻域的像素点,发送给绿色预插值模块,将当前进行插值的像素点的颜色值以及邻域的像素点的颜色值发送给红蓝分量模块;
绿色预插值模块,用于对当前进行插值的像素点以及邻域像素点进行绿色预插值后,发送给相关性判别模块;
相关性判别模块,用于根据进行绿色预插值后的当前进行插值的像素点以及邻域像素点进行相关性判别,得到当前进行插值的像素点最相关的所需插值颜色的像素点,将最相关的所需插值颜色的像素点发送给插值模块;
红蓝分量模块,用于保存从颜色判别模块得到的当前进行插值的像素点的颜色值以及邻域的像素点的颜色值,发送给插值模块;
插值模块,用于接收红蓝分量模块发送的当前进行插值的像素点的颜色值以及邻域的像素点的颜色值,确定从相关性判别模块得到的最相关的所需插值颜色的像素点的颜色值,将确定的颜色值作为当前像素点的颜色插值,得到彩色的当前像素点,输出。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于炬力集成电路设计有限公司,未经炬力集成电路设计有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810065215.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电站大型镜板镜面豪克能加工工艺
- 下一篇:一种自由空间的偏振相关型隔离器