[发明专利]发声装置有效

专利信息
申请号: 200810067729.5 申请日: 2008-06-13
公开(公告)号: CN101605290A 公开(公告)日: 2009-12-16
发明(设计)人: 姜开利;肖林;陈卓;范守善 申请(专利权)人: 清华大学;鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
主分类号: H04R23/00 分类号: H04R23/00
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地址: 100084北京市海淀区清华园1*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 发声 装置
【权利要求书】:

1.一种发声装置,其包括:

一电磁波信号输入装置;

一发声元件,该发声元件与该电磁波信号输入装置对应且间隔设置;

其特征在于,该发声元件包括一碳纳米管薄膜,该碳纳米管薄膜包括多个相 互缠绕的碳纳米管,该电磁波信号输入装置传递电磁波信号至该碳纳米管薄 膜,使该碳纳米管薄膜通过吸收该电磁波信号发热,从而加热气体介质发出 声波。

2.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜中的碳纳米 管之间通过范德华力相互吸引、缠绕,形成网络状结构。

3.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜中的碳纳米 管各向同性,均匀分布,无规则排列。

4.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜包括孔径小 于10微米的微孔结构。

5.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述碳纳米管薄膜的厚度为0.5 纳米~1毫米。

6.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,该发声装置进一步包括一支撑 结构,所述发声元件通过该支撑结构固定设置。

7.如权利要求6所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构为一平面或曲面 结构,并具有一表面,所述发声元件直接设置并贴合于该支撑结构的表面。

8.如权利要求6所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构为一框架结构、 杆状结构或不规则形状结构,所述发声元件通过该支撑结构支撑并部分悬空设 置。

9.如权利要求8所述的发声装置,其特征在于,所述发声装置进一步包括一拢 音结构,所述拢音结构设置于发声元件远离电磁波信号输入装置的一侧,与所 述发声元件相对并间隔设置。

10.如权利要求6所述的发声装置,其特征在于,所述支撑结构的材料为金刚石、 玻璃、石英、塑料、树脂、木质材料或纸质材料。

11.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述发声装置进一步包括一拢 音结构,所述拢音结构包括一亥姆霍兹共振腔,所述发声元件通过该拢音结构 固定设置。

12.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述电磁波信号为无线电波、 红外线、可见光、紫外线、微波、X射线及γ射线中的一种或多种。

13.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述电磁波信号输入装置包括 一光信号源,所述电磁波信号输入装置通过该光信号源发出光信号,该光信号 的波长范围为从紫外区至远红外区之间。

14.如权利要求13所述的发声装置,其特征在于,所述光信号源为一脉冲激光发 生器。

15.如权利要求13所述的发声装置,其特征在于,所述电磁波信号输入装置包括 一光纤,该光纤一端与所述光信号源连接,另一端延伸至所述碳纳米管薄膜附 近,所述光信号通过光纤传递至所述碳纳米管薄膜。

16.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,该发声装置进一步包括一调制 装置,该调制装置设置于所述电磁波信号输入装置与发声元件之间,且位于所 述电磁波信号的传输路径上,该调制装置包括强度调制装置、频率调制装置或 两者的结合。

17.如权利要求1所述的发声装置,其特征在于,所述电磁波信号的平均功率密 度为1μW/mm2~20W/mm2

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