[发明专利]含应力缓和层的硬质薄膜及其制备方法无效
| 申请号： | 200810070037.6 | 申请日： | 2008-07-25 |
| 公开（公告）号： | CN101323945A | 公开（公告）日： | 2008-12-17 |
| 发明（设计）人： | 聂朝胤;田鹏;曲燕青;张碧云 | 申请（专利权）人： | 西南大学 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/24;C23C8/24 |
| 代理公司： | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 | 代理人： | 周韶红 |
| 地址： | 400716*** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 应力 缓和 硬质 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1、含应力缓和层的硬质薄膜，其特征在于，在硬质薄膜中间隔含有相同金属的应力缓和层。
2、根据权利要求1所述的硬质薄膜，其特征在于，硬质薄膜为以TiN、CrN、TiAlN、TiCrN、TiSiN或CrSiN为主要成分的硬质薄膜。
3、根据权利要求1或2所述的硬质薄膜，其特征在于，应力缓和层为Ti层或Cr层。
4、根据权利要求1或2所述的硬质薄膜，其特征在于，应力缓和层的间距在1.5um～4.5um间，应力缓和层的厚度在10nm～52nm间。
5、含应力缓和层的硬质薄膜的制备方法，其其特征在于，采用离子镀膜技术，使金属或合金阴极蒸发获得金属离子，然后使这些金属离子在氮气气氛中发生反应生成硬质氮化物薄膜，在氩气气氛中反应生成金属应力缓和层，生成硬质氮化物薄膜称为A过程，生成金属应力缓和层称为B过程；通过A过程与B过程交替进行得到具有规定厚度的氮化物和金属交替层。
6、根据权利要求5所述的方法，其其特征在于，A过程与B过程交替5次以上，金属应力缓和层2层以上。
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