[发明专利]一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法无效
申请号: | 200810070609.0 | 申请日: | 2008-02-02 |
公开(公告)号: | CN101225306A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 李庆阁;许晔 | 申请(专利权)人: | 厦门大学 |
主分类号: | C09K11/77 | 分类号: | C09K11/77 |
代理公司: | 厦门南强之路专利事务所 | 代理人: | 马应森 |
地址: | 361005福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 荧光 稀土 络合物 纳米 颗粒 制备 方法 | ||
1.一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于包括以下步骤:
1)硅纳米颗粒载体的制备:通过Stober方法或反相微乳法制备出大小可控的硅纳米颗粒;
2)硅纳米颗粒表面的功能化:采用带有功能基团的硅烷试剂修饰硅纳米颗粒,使硅纳米颗粒表面固定有用于化学键合的功能基团;
3)荧光稀土络合物的化学键合:将稀土配体键合于颗粒表面,然后加入稀土离子,与固定在硅纳米颗粒表面的稀土配体形成具有荧光的稀土络合物;
4)颗粒表面基团的枝接:用四乙氧基硅烷修饰上述荧光硅纳米颗粒,利用颗粒表面剩余的硅羟基,枝接生长出更多的表面硅羟基,以用于进一步的循环功能化及键合稀土络合物;
5)循环枝接与多层修饰:重复步骤2)~4),用于增强荧光硅纳米颗粒的荧光强度;
6)荧光硅纳米颗粒表面的再次功能化:使用带有功能基团的硅烷试剂再一次修饰经过循环枝接与多层修饰制备好的荧光硅纳米颗粒,补充其表面因键合而减少的功能基团,得产物荧光稀土络合物硅纳米颗粒。
2.如权利要求1所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于带有功能基团的硅烷试剂选自氨丙基三甲氧基硅烷、巯丙基三甲氧基硅烷或5.3-甘油酸丙烷三甲氧基硅烷,为硅纳米颗粒表面修饰上氨基、巯基、环氧基功能性基团。
3.如权利要求1所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于所述的稀土配体包括带有活性基团的稀土配体和没有活性但带有可被活化的功能基团的稀土配体,带有活性基团的稀土配体可直接于硅纳米颗粒表面的功能基团反应,键合于颗粒表面;而对于没有活性但带有可被活化的功能基团的稀土配体可通过交联试剂,键合于颗粒表面。
4.如权利要求3所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于所述的带有活性基团的稀土配体指的是分子上带有磺酰氯基、琥珀酰亚胺基或马来酰亚胺基基团的稀土配体,直接与硅纳米颗粒表面的功能基团键合。
5.如权利要求3所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于所述的没有活性但带有可被活化的功能基团的稀土配体指的是分子上带有氨基、巯基或羧基基团的稀土配体,通过相应的交联试剂与硅纳米颗粒表面的功能基团键合。
6.如权利要求1所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于所述的循环枝接与多层修饰指的是利用TEOS对被修饰后的颗粒表面的剩余硅羟基进行枝接。
7.如权利要求1所述的一种荧光稀土络合物硅纳米颗粒的制备方法,其特征在于所述的重复步骤2)~4)的重复次数为3~5次。
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