[发明专利]一种降低金属硅中氧、碳含量的方法无效

专利信息
申请号: 200810070925.8 申请日: 2008-04-15
公开(公告)号: CN101386413A 公开(公告)日: 2009-03-18
发明(设计)人: 郑智雄 申请(专利权)人: 南安市三晶硅品精制有限公司
主分类号: C01B33/037 分类号: C01B33/037
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 代理人: 张松亭
地址: 362000福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 降低 金属硅 含量 方法
【权利要求书】:

1.一种降低金属硅中氧、碳含量的方法,包括以下步骤:

A、将1550℃~1950℃的处于熔融状态的硅液倒入盛硅容器中,盛硅容器的底部中央设有三个分别连接带有控气装置的氧气、氢气和水蒸气气源导入气头;

B、顺次吹入氧气、氢气和水蒸气,通入硅液中的氧气、氢气和水蒸气的摩尔比为1∶0.4~0.6∶0.4~0.6,氧气、氢气、水蒸气气体的压力均为1~2kg/cm2g,使氢气和氧气在硅液中反应产生局部高温,硅溶液中的O、C元素随气体排放而除去;C、连续通入氧气、氢气和水蒸气0.5~3小时。

2.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,还包括以下步骤:取样分析检测,并根据检测结果决定是否重复步骤B,在硅液中O含量在3000ppm以下,C含量在600ppm以下时,结束操作。

3.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:通入硅液中的氧气、氢气和水蒸气的摩尔比优选为1∶0.5∶0.5。

4.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述氧气、氢气、水蒸气气源导入气头使用氧化镁、氧化锆或氧化铪中的一种制成。

5.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述氧气、氢气、水蒸气气源导入气头呈三角形地设置在盛硅容器的底部中央。

6.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:两相邻的导入气头之间用板状物隔离。

7.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述盛硅容器为坩埚。

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