[发明专利]一种降低金属硅中氧、碳含量的方法无效
申请号: | 200810070925.8 | 申请日: | 2008-04-15 |
公开(公告)号: | CN101386413A | 公开(公告)日: | 2009-03-18 |
发明(设计)人: | 郑智雄 | 申请(专利权)人: | 南安市三晶硅品精制有限公司 |
主分类号: | C01B33/037 | 分类号: | C01B33/037 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 | 代理人: | 张松亭 |
地址: | 362000福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 降低 金属硅 含量 方法 | ||
1.一种降低金属硅中氧、碳含量的方法,包括以下步骤:
A、将1550℃~1950℃的处于熔融状态的硅液倒入盛硅容器中,盛硅容器的底部中央设有三个分别连接带有控气装置的氧气、氢气和水蒸气气源导入气头;
B、顺次吹入氧气、氢气和水蒸气,通入硅液中的氧气、氢气和水蒸气的摩尔比为1∶0.4~0.6∶0.4~0.6,氧气、氢气、水蒸气气体的压力均为1~2kg/cm2g,使氢气和氧气在硅液中反应产生局部高温,硅溶液中的O、C元素随气体排放而除去;C、连续通入氧气、氢气和水蒸气0.5~3小时。
2.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,还包括以下步骤:取样分析检测,并根据检测结果决定是否重复步骤B,在硅液中O含量在3000ppm以下,C含量在600ppm以下时,结束操作。
3.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:通入硅液中的氧气、氢气和水蒸气的摩尔比优选为1∶0.5∶0.5。
4.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述氧气、氢气、水蒸气气源导入气头使用氧化镁、氧化锆或氧化铪中的一种制成。
5.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述氧气、氢气、水蒸气气源导入气头呈三角形地设置在盛硅容器的底部中央。
6.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:两相邻的导入气头之间用板状物隔离。
7.根据权利要求1中所述的降低金属硅中氧、碳含量的方法,其特征在于:所述盛硅容器为坩埚。
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