[发明专利]一种单纵模激光器无效

专利信息
申请号: 200810071514.0 申请日: 2008-07-29
公开(公告)号: CN101330193A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 吴砺;马英俊;顾世杰;彭永进;凌吉武 申请(专利权)人: 福州高意通讯有限公司
主分类号: H01S3/08 分类号: H01S3/08;H01S3/06;H01S3/16;H01S3/109;H01S3/098
代理公司: 厦门市诚得知识产权代理事务所 代理人: 方惠春;黄国强
地址: 350000福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 单纵模 激光器
【说明书】:

技术领域

发明涉及激光器领域,尤其涉及一种由双折射晶体组构成的单纵模激光器。

背景技术

在单纵模激光器领域,人们已提出获得单纵模输出激光器的几种腔结构,如双折射滤波片法,扭摆模法,短腔吸收法,环行腔法等。其中扭摆模法原理图见图1,扭摆膜腔法是基于消去激光增益介质中的空间烧孔效应方法。图1中,M1,M2,1/4波片,P1,P2增益介质Nd:YAG和起偏器BP组成。P1,P2快轴相互垂直,并与起偏器偏振方向成45度角。P1外入射线偏光通过P1后变成或圆偏振光通过P2后变成线偏振光,经过M2反射再次经过P2线偏光又变成圆偏光,因此在增益介质中两方向的圆偏光叠加后,增益介质内的光强为4E2COS2(wt-k1),从而可知在增益介质内光强与Z方向无关,能量均匀分布,因此不存在空间烧空效应,激光器可以单纵模运作。

图2为一种改进型结构,利用对KTP的温控使它对基频起到1/4波片作用。采用V型腔结构提高输出光的功率。但到目前为止,扭摆膜腔法多应用于各向同性的增益介质中。

因此本发明提出应用双折射晶体介质,它采用短腔与扭摆模法混合可以使较低泵浦功率和较短腔中获得单纵模输出。

发明内容

为实现此目的,本发明采用如下技术方案:

本发明的一种单纵模激光器,包括泵浦光源、光学耦合系统、激光增益介质、谐振腔。更具体的,所述的谐振腔包括一组或多组、二片1/4波片、一组起偏器;所述的每一组双折射晶体光轴相互垂直和平等并保持任一光轴方向偏振光程相等,并设置于二片1/4波片之间,所述的起偏器设置于1/4波片后。

进一步的,所述的双折射晶体组是激光增益介质,倍频晶体或其他折射率与晶体厚度均为温度的函数的光学元件,在相当的温度满足其函数满足ΣiddtΔniLi=0.]]>

更进一步的,所述的多组双折射晶体组每组可以是等厚光轴相同的同一种光学双折射晶体。

若如上所述的双折射晶体是选用对π与σ方向增益相差较大的双折射晶体增益介质时,可以在谐振腔中设置起偏器,亦可以不设置起偏器。

进一步的,所述的起偏器可以是布儒斯特片、PBS棱镜、work-off晶体、双折射晶体楔角或楔角对。

进一步的,还可以在所述的谐振腔加入其他光学元件,如倍频晶体、标准具,所述的倍频晶体可以设置于两个1/4波片之间,亦可设置于非两1/4波片之间的起偏器与输出腔镜之间。

进一步的,还可以在起偏器与输出腔镜之间设置一双折射晶体波片调节激光波长。

通过上述技术方案,本发明实现了在两片1/4波片之间有两片或两片以上的通光方向光轴相互正交的双折射晶体,构成垂直通光方向上两个光轴总光程相等或近似相等光学元件组,构成单纵模输出的基波或倍频光输出的单纵模激光器。提供了与常规单纵模激光器不同的另一种结构的单纵模激光器。

附图说明

图1采用扭摆模法原理的单纵模激光器的谐振腔结构示意图;

图2采用扭摆模法原理的单纵模激光器的谐振腔的改进型结构示意图;

图3本发明的单纵模激光器的谐振腔结构示意图。

具体实施方式

本发明的一种单纵模激光器,包括泵浦光源、光学耦合系统、激光增益介质、谐振腔。更具体的,所述的谐振腔包括一组或多组双折射晶体组、二片1/4波片、一组起偏器;所述的每一组双折射晶体光轴相互垂直和平等并保持任一光轴方向偏振光程相等,并设置于二片1/4波片之间,所述的起偏器设置于1/4波片后。

如图3所示,201、207为激光腔镜,202、205为光轴相互垂直的1/4波片,206为起偏器,如布儒斯特片、双折射晶体楔角片或楔角对、PBS棱镜、work-off晶体等起偏光学元件,起偏器(206)起偏方向与1/4波片(202、205)光轴呈45°或45°附近。203为第一双折射晶体激光增益介质,204为另一双折射晶体,即第二双折射晶体激光增益介质,第一双折射晶体(203)与第二双折射晶体(204)光轴相互垂直。208为其它光学原件,如倍频晶体。

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