[发明专利]双掺镱铒离子七钼酸四钆锂激光晶体及其制备方法和用途无效

专利信息
申请号: 200810071781.8 申请日: 2008-09-16
公开(公告)号: CN101676444A 公开(公告)日: 2010-03-24
发明(设计)人: 王国富;赵旺;张莉珍 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C30B29/32 分类号: C30B29/32;C30B15/00;C30B15/04;H01S3/16
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350002福*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 双掺镱铒 离子 钼酸 四钆锂 激光 晶体 及其 制备 方法 用途
【权利要求书】:

1.一种双掺镱铒离子七钼酸四钆锂激光晶体,其特征在于:该晶体的分子式为Li2Gd4(MoO4)7,属于四方晶系,晶胞参数为Dc=5.49g/cm3

2.一种权利要求1的双掺镱铒离子七钼酸四钆锂激光晶体,其特征在于:该晶体中Er3+离子作为激光激活离子,Yb3+离子作为敏化离子掺杂于晶体中,取代晶体中Gd3+离子的晶格位置,其掺杂浓度分别为:Er3+:0.1at.-5at.%,Yb3+:0.5at.-15at.%。

3.一种权利要求1的双掺镱铒离子七钼酸四钆锂激光晶体的制备方法,其特征在于:该晶体采用提拉法生长,以Gd2O3、Li2CO3、MoO3,Er2O3和Yb2O3为原料,按化学反应式:

Li2CO3+2Gd2O3+7MoO3==Li2Gd4(MoO4)7+CO2的比例称样、混合、压片、烧结,而Er2O3、Yb2O3则按所需浓度加入;在铂金坩锅中,富氧气氛下提拉生长出晶体,晶体生长的参数为:生长温度为1080℃,提升速度为0.5~2.0毫米/小时,晶体转速为10~30转/分钟。

4.一种权利要求1的双掺镱铒离子七钼酸四钆锂激光晶体的用途,其特征在于:该晶体用于固体激光器中作为激光工作物质,产生1500nm波长的激光输出。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院福建物质结构研究所,未经中国科学院福建物质结构研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810071781.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top