[发明专利]纳米SnO2种子嵌入涂层钛阳极及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米SnO₂种子嵌入涂层钛阳极，其特征在于：所述的钛阳极表面沉积活性涂层，所述的钛阳极的活性涂层为添加纳米SnO₂种子的氧化物涂层；所述纳米SnO₂种子具有以金红石结构为主的相结构；所述纳米SnO₂种子粒径＜40nm；制备添加纳米20％SnO₂的种子的Ru-Sn涂层或制备添加纳米30％SnO₂的种子的Ru-Ti-Sn涂层钛阳极。

2.根据权利要求1所述的纳米SnO₂种子嵌入涂层钛阳极，其特征在于：所述纳米SnO₂种子粒径为4～16nm。

3.一种如权利要求1或2所述的纳米SnO₂种子嵌入涂层钛阳极的制备方法，其特征在于：所述的制备方法为：

1)将纳米SnO₂种子添加于活性溶液之中，获得含纳米SnO₂种子的氧化物活性涂料；

2)将涂料按常规的沉积法沉积于钛基材上；

3)经过常规的后续热处理获得纳米SnO₂种子嵌入涂层钛阳极。