[发明专利]反射防止膜、光学元件及光学系统无效
申请号: | 200810074202.5 | 申请日: | 2008-02-13 |
公开(公告)号: | CN101271166A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 寺山悦夫 | 申请(专利权)人: | 富士能株式会社 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B7/02 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李贵亮 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反射 防止 光学 元件 光学系统 | ||
1.一种光学元件,其特征在于,
备有:
光学构件;
其它光学构件;
粘结层;
设置在所述光学部件和所述粘接层之间并至少包含从上述粘接层侧依次层叠的第1至第6层的多层膜,
所述光学构件和所述其它光学构件通过该粘结层而接合,
上述多层膜的整体的等价折射率,比上述光学部件的折射率低,且比上述粘接层的折射率高,
上述第2、第4及第6层的折射率比上述第1及第3层的折射率高,且比上述第5层的折射率低。
2.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,
进一步满足以下所有的条件式(1)~(6):
0.06×λ0≤N1·d1≤0.11×λ0……(1)
0.07×λ0≤N2·d2≤0.13×λ0……(2)
0.06×λ0≤N3·d3≤0.18×λ0……(3)
0.31×λ0≤N4·d4≤0.43×λ0……(4)
0.04×λ0≤N5·d5≤0.09×λ0……(5)
0.06×λ0≤N6·d6≤0.18×λ0……(6)
这里,
λ0:中心波长
N1~N6:在从第1至第6层对中心波长λ0的折射率;
d1~d6:从第1至第6层的物理性膜厚。
3.根据权利要求1或2所述的光学元件,其特征在于,
上述第1及第3层,由对d线显示出1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料而构成,
上述第2、第4及第6层,由对d线显示出1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料而成,
上述第5层,由对d线显示出1.70以上2.50以下的范围内比上述中间折射率材料更高的折射率的高折射率材料而构成。
4.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,
在上述第6层的光学部件侧,依次层叠有第7层和第8层,
上述第7层的折射率比上述第1至第4及第6层的高,
上述第8层的折射率比上述第1及第3层的折射率高,且比上述第5及第7层的折射率低。
5.根据权利要求4所述的光学元件,其特征在于,
而且,同时满足以下的条件式(7)及(8),
0.05×λ0≤N7·d7≤0.14×λ0……(7)
0.04×λ0≤N8·d8≤0.07×λ0……(8)
其中,
λ0:中心波长,
N7、N8:第7层和第8层的对中心波长λ0的折射率,
d7、d8:第7层及第8层的物理膜厚。
6.根据权利要求4或5所述的光学元件,其特征在于,
上述第1及第3层,由对d线显示出1.35以上1.50以下的折射率的低折射率材料而构成,
上述第2、第4、第6及第8层,由对d线显示出1.55以上1.85以下的折射率的中间折射率材料而构成,
上述第5及第7层,由对d线显示出1.70以上2.50以下的范围内比上述中间折射率材料还高的折射率的高折射率材料而成。
7.根据权利要求3或6所述的光学元件,其特征在于,
上述低折射率材料包含氟化镁(MgF2)、二氧化硅(SiO2)及氟化铝(AlF3)中的至少一种,
上述中间折射率材料包含铝酸镨(PrAlO3)、铝酸镧(La2XAl2YO3(X+Y))、三氧化二铝(Al2O3)、氧化锗(GeO2)、三氧化二钇(Y2O3)中的至少一种,
上述高折射率材料包含钛酸镧(LaTiO3)、氧化锆(ZrO2)、二氧化钛(TiO2)、五氧化二钽(Ta2O5)、五氧化二铌(Nb2O5)、氧化铪(HfO2)、二氧化铈(CeO2)中的至少一种。
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