[发明专利]内埋组件的基板制程有效

专利信息
申请号: 200810081067.7 申请日: 2008-02-21
公开(公告)号: CN101231961A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 谢爵安;戴丰成 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L21/50 分类号: H01L21/50;H01L21/48
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 代理人: 陆嘉
地址: 台湾省高雄市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 组件 基板制程
【权利要求书】:

1.一种内埋组件的封装制程,其是包含:

提供一模具,该模具具有一表面及数个突起部,该些突起部形成于该表面上;

形成一第一介电层于该表面并覆盖该些突起部;

设置至少一电子组件于该第一介电层,该电子组件具有一主动面、一背面及数个接点,该主动面朝向该第一介电层,该些接点形成于该主动面上,其中该些接点对应于该些突起部;

形成一第二介电层于该第一介电层;以及

设置一载板于该电子组件的该背面上。

2.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其中该第二介电层是覆盖该电子组件。

3.如权利要求2所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:利用一整平步骤使该第二介电层显露出该电子组件的该背面,使得该载板得以贴设于该背面。

4.如权利要求3所述的内埋组件的封装制程,其中该第二介电层与该电子组件的该背面是共平面。

5.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行一微压印步骤,其通过该模具的该些突起部使该第一介电层形成有数个开口,该些开口是对应该电子组件的该些接点。

6.如权利要求5所述的内埋组件的封装制程,其中在该微压印步骤中,是以紫外光固化该第一介电层。

7.如权利要求5所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:移除该模具以显露出该些开口,其中该些开口显露该些接点。

8.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:形成一重分配线路层于该第一介电层上,该重分配线路层具有数个重分配垫,该些重分配垫是电性连接至该电子组件的该些接点。

9.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其中该模具为一透明材质。

10.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行移除该载板的步骤。

11.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行切割步骤。

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