[发明专利]内埋组件的基板制程有效
申请号: | 200810081067.7 | 申请日: | 2008-02-21 |
公开(公告)号: | CN101231961A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 谢爵安;戴丰成 | 申请(专利权)人: | 日月光半导体制造股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/48 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 台湾省高雄市*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组件 基板制程 | ||
1.一种内埋组件的封装制程,其是包含:
提供一模具,该模具具有一表面及数个突起部,该些突起部形成于该表面上;
形成一第一介电层于该表面并覆盖该些突起部;
设置至少一电子组件于该第一介电层,该电子组件具有一主动面、一背面及数个接点,该主动面朝向该第一介电层,该些接点形成于该主动面上,其中该些接点对应于该些突起部;
形成一第二介电层于该第一介电层;以及
设置一载板于该电子组件的该背面上。
2.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其中该第二介电层是覆盖该电子组件。
3.如权利要求2所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:利用一整平步骤使该第二介电层显露出该电子组件的该背面,使得该载板得以贴设于该背面。
4.如权利要求3所述的内埋组件的封装制程,其中该第二介电层与该电子组件的该背面是共平面。
5.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行一微压印步骤,其通过该模具的该些突起部使该第一介电层形成有数个开口,该些开口是对应该电子组件的该些接点。
6.如权利要求5所述的内埋组件的封装制程,其中在该微压印步骤中,是以紫外光固化该第一介电层。
7.如权利要求5所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:移除该模具以显露出该些开口,其中该些开口显露该些接点。
8.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:形成一重分配线路层于该第一介电层上,该重分配线路层具有数个重分配垫,该些重分配垫是电性连接至该电子组件的该些接点。
9.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其中该模具为一透明材质。
10.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行移除该载板的步骤。
11.如权利要求1所述的内埋组件的封装制程,其另包含有:进行切割步骤。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造