[发明专利]测量目标方位和距离的激光雷达设备有效

专利信息
申请号: 200810081225.9 申请日: 2008-02-20
公开(公告)号: CN101435870A 公开(公告)日: 2009-05-20
发明(设计)人: 冈田匡宪;鸿巢光司;田中秀幸 申请(专利权)人: 电装波动株式会社
主分类号: G01S7/481 分类号: G01S7/481;G01S17/02
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 王 英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 测量 目标 方位 距离 激光雷达 设备
【权利要求书】:

1.一种测量目标的距离和到所述目标的方位的激光雷达设备, 所述目标位于从所述激光雷达设备开始的测量范围中,包括:

激光束产生装置,用于产生具有轴的激光束,并向所述测量范围 发射所述激光束;

光检测装置,用于检测位于所述测量范围中的所述目标反射回来 的反射激光束;

反射镜组件,包括:

通孔,贯通所述反射镜组件,与从所述激光束产生装置发射 的所述激光束的轴同轴,并且透射从所述激光束产生装置发射的所述 激光束;以及

反射表面,设置为与从所述激光束产生装置发射的所述激光 束的所述轴成预定的角度,并且向所述光检测装置反射由所述目标反 射回来的反射激光束;

光偏转装置,用于偏转从所述激光束产生装置发射的所述激光 束,以及偏转位于所述测量范围中的所述目标反射回来的所述激光 束,所述光偏转装置具有旋转轴和焦点,并且包括反射镜表面,所述 反射镜表面包括具有平坦反射镜表面的平坦反射部分和具有凹面形 反射镜表面的凹面反射部分;

旋转驱动装置,用于绕所述光偏转装置的旋转轴旋转所述光偏转 装置,使得所述光偏转装置的所述凹面反射部分的所述凹面形反射镜 表面和所述平坦反射部分的所述平坦反射镜表面转向所述测量范围 的方向,

其中,所述光偏转装置的所述焦点位于所述光偏转装置的旋转轴 上,

光偏转装置向所述测量范围偏转从所述激光束产生装置发射的 所述激光束,以及向所述反射镜组件偏转由位于所述测量范围中的所 述目标反射回来的所述激光束。

2.如权利要求1所述的设备,还包括:

激光束会聚装置,用于将所述目标反射回来的所述激光束汇聚到 所述光检测装置。

3.如权利要求1所述的设备,其中

所述光偏转装置的所述平坦反射部分的所述平坦反射镜表面被 所述凹面反射部分的所述凹面形反射镜表面包围。

4.如权利要求1所述的设备,其中:

所述通孔的周边表面具有投影图像,该投影图像是通过向与所述 激光束产生装置发射的激光束的轴垂直的平面投影所述通孔的所述 周边表面而获得的,并且所述通孔的所述周边表面具有圆形的形状, 以及

所述平坦反射部分的所述平坦反射镜表面的外部边缘具有投影 图像,该投影图像是通过向与所述激光束产生装置发射的激光束的轴 垂直的平面投影所述平坦反射部分的所述平坦反射镜表面的外部边 缘而获得的,并且所述平坦反射部分的所述平坦反射镜表面的所述外 部边缘具有圆形的形状。

5.如权利要求1所述的设备,还包括:

光束改变装置,用于将从所述激光束产生装置发射的所述激光束 改变为具有预定投影图案的改变的激光束,

其中,所述光束改变装置嵌在所述光偏转装置的所述反射镜表面 的所述平坦反射部分中,使得从所述激光束产生装置发射的所述激光 束改变为在测量范围具有所述预定投影图案,并且改变的激光束的横 截面覆盖比所述激光束产生装置发射的所述激光束的横截面更大的 面积。

6.如权利要求5所述的设备,其中

所述光束改变装置包括衍射光栅。

7.如权利要求5所述的设备,其中

所述预定投影图案包括亮区和所述亮区包围的暗区,其中,相比 所述暗区有更多量的光照射在所述亮区上。

8.如权利要求5所述的设备,其中

所述预定投影图案包括一对亮区和该对亮区之间的暗区。

9.如权利要求8所述的设备,其中

所述预定投影图案的设计使得该对亮区以预定间隔位于所述光 偏转装置的旋转轴上。

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