[发明专利]光刻装置以及器件制造方法

权利要求书

1.一种光刻投影装置，包括：

设置成可调节辐射光束的照明系统；

设置成可保持图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置设置成可赋予光束的横截面某一图案；

设置成可保持衬底的衬底台；

设置成可将所述图案化的辐射光束投射到所述衬底的目标部分上的投影系统；和

液体供给系统，其包括设置成可将液体供给到所述投影系统与所述衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分所述液体的出口，所述液体供给系统设置成可使所述入口、所述出口或这两者围绕基本上垂直于所述衬底的曝光面的轴线而旋转；以及

一个或多个电动机，设置成可使所述入口、所述出口或这两者围绕所述轴线沿着逆时针方向和顺时针方向而旋转；和

控制器，设置成可根据衬底和/或衬底台的运动方向来控制所述一个或多个电动机。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述控制器可以前馈方式操作。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体供给系统包括构造成至少部分地将所述液体约束在所述空间内的液体约束结构，所述液体约束结构包括所述入口和所述出口，并且构造成可围绕所述轴线旋转。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述入口和出口分别位于曝光场的相对侧上，所述图案化光束可通过所述曝光场来投影。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述液体约束结构支撑在与所述装置的底座或地面相连的框架上，所述液体约束结构包括一个或多个电动机，其配置成可使所述液体约束结构相对于所述框架旋转。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体在所述空间内的流动方向与所述衬底的运动方向基本上一致。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述液体在所述空间内的流动方向与所述衬底的扫描运动方向基本上一致。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制器，其设置成可通过所述入口、所述出口或这两者的旋转，而将所述空间内液体的流动方向保持与所述衬底的运动方向基本上一致，而无论所述衬底在何时运动。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述入口、所述出口或这两者构造成可旋转小于或等于360度。

10.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述入口、所述出口或这两者构造成可旋转小于或等于200度。

11.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述控制器设置成可驱动所述入口、所述出口或这两者仅仅旋转至这样的位置，其中从所述入口至所述出口的方向基本上平行于所述衬底的扫描运动且处于同一方向上。

12.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体供给系统包括多个入口、多个出口或者这两者，并且构造成可使所述入口、所述出口或这两者旋转。

13.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述空间内液体的流动方向基本上垂直于所述衬底的运动方向。

14.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体供给系统构造成可使所述入口仅仅围绕基本上垂直于所述衬底的曝光面的轴线而旋转。

15.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体供给系统构造成可使所述出口仅仅围绕基本上垂直于所述衬底的曝光面的轴线而旋转。

16.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述液体供给系统构造成可使所述入口和出口围绕基本上垂直于所述衬底的曝光面的轴线而旋转。

17.一种光刻投影装置，包括：

设置成可调节辐射光束的照明系统；

设置成可保持图案形成装置的支撑结构，所述图案形成装置设置成可赋予光束的横截面某一图案；

设置成可保持衬底的衬底台；

设置成可将所述图案化的辐射光束投射到所述衬底的目标部分上的投影系统；和

液体供给系统，其包括设置成可将液体供给到所述投影系统与所述衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分所述液体的出口，所述液体供给系统设置成可使所述入口和出口根据所述衬底的运动变化，而一前一后地围绕基本上平行于所述投影系统光轴的轴线旋转。