[发明专利]一种增进硅片级封装(WLP)可靠度的封装结构无效
申请号: | 200810082323.4 | 申请日: | 2008-02-29 |
公开(公告)号: | CN101256991A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 杨文焜;林殿方 | 申请(专利权)人: | 育霈科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/31 | 分类号: | H01L23/31;H01L23/29 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周长兴 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 增进 硅片 封装 wlp 可靠 结构 | ||
1、一种增进可靠度的封装结构,其包含:
一柔软区域其位于此封装结构的中性点距离区外侧,其中该柔软区域具有第一介电层以吸收热应力;且
一坚硬区域其位于此封装结构的中性点距离区之内,其中在坚硬区域中的第二介电层材料,硬度高于第一介电层。
2、如权利要求1所述的封装结构,其中,该中性点距离的长度于0.3mm的锡球为3-4mm。
3、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述坚硬区域的该第二介电层材料的热膨胀系数范围在20-80ppm。
4、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域中的该第二介电层材料的伸长百分比小于10%。
5、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域中的该第二介电层材料为苯环丁烯或聚亚酰胺。
6、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域的球部抗切强度大于此柔软区域的球部抗切强度。
7、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述柔软区域中的该第一介电层材料的伸长百分比为30-50%。
8、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述柔软区域面积大于此坚硬区域的面积。
9、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述柔软区域的该第一介电层材料的热膨胀系数大于100ppm。
10、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述柔软区域的该第一介电层为硅基介电质-硅氧烷高分子或道康宁WL5000/3000系列。
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