[发明专利]一种增进硅片级封装(WLP)可靠度的封装结构无效

专利信息
申请号: 200810082323.4 申请日: 2008-02-29
公开(公告)号: CN101256991A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 杨文焜;林殿方 申请(专利权)人: 育霈科技股份有限公司
主分类号: H01L23/31 分类号: H01L23/31;H01L23/29
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 周长兴
地址: 台湾省*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 一种 增进 硅片 封装 wlp 可靠 结构
【权利要求书】:

1、一种增进可靠度的封装结构,其包含:

一柔软区域其位于此封装结构的中性点距离区外侧,其中该柔软区域具有第一介电层以吸收热应力;且

一坚硬区域其位于此封装结构的中性点距离区之内,其中在坚硬区域中的第二介电层材料,硬度高于第一介电层。

2、如权利要求1所述的封装结构,其中,该中性点距离的长度于0.3mm的锡球为3-4mm。

3、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述坚硬区域的该第二介电层材料的热膨胀系数范围在20-80ppm。

4、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域中的该第二介电层材料的伸长百分比小于10%。

5、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域中的该第二介电层材料为苯环丁烯或聚亚酰胺。

6、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述坚硬区域的球部抗切强度大于此柔软区域的球部抗切强度。

7、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述柔软区域中的该第一介电层材料的伸长百分比为30-50%。

8、如权利要求1所述的封装结构,其中,上述柔软区域面积大于此坚硬区域的面积。

9、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述柔软区域的该第一介电层材料的热膨胀系数大于100ppm。

10、如权利要求1所述的封装结构,其中,于上述柔软区域的该第一介电层为硅基介电质-硅氧烷高分子或道康宁WL5000/3000系列。

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