[发明专利]光学元件、光学膜平面化方法及光学元件的制造方法

权利要求书

1.一种光学元件，

在基板的表面或背面中的粗度细的面形成光学膜，

在上述光学膜存在产生向基板的成膜面的方向凸出的歪曲的膜应力，

在与上述粗度细的面相反的面形成毛面，且该毛面按照使上述光学膜 平面化的方式以上述膜应力所对应的粒度进行打磨，由此，产生向上述基 板的粗面的方向凸出的歪曲，而在上述基板的表面和背面使面粗度具有差 别，从而缓和上述光学膜的应力。

2.根据权利要求1所述的光学元件，其特征在于，

上述粗度细的面通过镜面研磨完成为成膜面，与该成膜面相反的面形 成为毛面。

3.根据权利要求1或2所述的光学元件，其特征在于，

上述光学膜是对规定波长域的光进行反射的反射多层膜。

4.一种光学膜平面化方法，包括：

镜面研磨工序，通过对基板的至少一面进行镜面研磨而形成镜面；

毛面形成工序，通过对镜面研磨的一面的相反面进行打磨来形成毛 面；和

光学膜形成工序，在上述毛面形成工序后进行，在上述镜面研磨后的 一面形成光学膜，

通过将上述毛面在产生向上述光学膜的上述基板的上述镜面的方向 凸出的歪曲的膜应力的预想状态下按照使上述光学膜平面化的方式以上 述膜应力所对应的粒度进行打磨，由此，产生向上述基板的上述毛面的方 向凸出的歪曲，在上述基板的上述镜面和上述毛面使面粗度具有差别，缓 和上述光学膜对上述基板的应力，而使上述光学膜平面化。

5.一种光学膜平面化方法，包括：

镜面研磨工序，通过对基板的至少一面进行镜面研磨而形成镜面；

光学膜形成工序，在镜面研磨后的一面形成光学膜；和

毛面形成工序，在上述光学膜形成工序后进行，通过对上述形成有光 学膜之面的相反面进行打磨而形成毛面，

通过将上述毛面按照使上述光学膜平面化的方式以与产生向上述光 学膜的上述基板的上述镜面的方向凸出的歪曲的膜应力所对应的粒度进 行打磨，由此，产生向上述基板的上述毛面的方向凸出的歪曲，且在上述 基板的上述镜面和上述毛面使面粗度具有差别，缓和上述光学膜对上述基 板的应力，而使上述光学膜平面化。

6.根据权利要求5所述的光学膜平面化方法，其特征在于，

还包括：

微调整工序，其通过用比在上述毛面形成工序中形成毛面的粒度更粗 的粒度或更细的粒度对上述毛面进行打磨，进行使上述成膜面更接近平面 的微调整。

7.一种光学元件的制造方法，在基板的镜面研磨后的一面镜面形成光 学膜，在上述光学膜存在产生向上述基板的上述镜面的方向凸出的歪曲的 膜应力，而在形成该光学膜的面的相反面形成毛面，从而，产生向上述基 板的上述毛面的方向凸出的歪曲，制造通过在上述基板的上述镜面和上述 毛面使面粗度具有差别而使上述光学膜的应力缓和后的光学元件，

该光学元件的制造方法包括：

镜面研磨工序，通过对上述基板的至少一面进行镜面研磨而形成镜 面；

毛面形成工序，在镜面研磨的一面的相反面形成毛面；和

光学膜形成工序，在上述毛面形成工序后进行，在上述镜面研磨的一 面形成光学膜，

并且，将上述毛面在上述膜应力的预想状态下按照使上述光学膜平面 化的方式以上述膜应力所对应的粒度进行打磨。