[发明专利]一种光电元件的客制化制造方法有效

专利信息
申请号: 200810083255.3 申请日: 2008-03-04
公开(公告)号: CN101527253A 公开(公告)日: 2009-09-09
发明(设计)人: 谢明勋 申请(专利权)人: 晶元光电股份有限公司
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;G05B19/04;G05B19/418
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 葛宝成
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 光电 元件 客制化 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种光电元件的客制化制造方法。

背景技术

半导体光电元件,例如发光二极管(LED)或太阳能电池(solar cell),分 别具有节能及干净能源的功效,受到世界环保团体及各国政府广泛的重视, 并已订定时间表积极推广,以解决地球暖化的问题。面对快速成长的需求, 光电元件制造厂传统的人工结合半自动生产方式,至少会面临包括交期缩短, 以及客户端为因应多元应用产生的多样化产品规格的挑战。因此,除了积极 的扩张生产线以因应大量需求及多元的应用,有效率的生产流程及快速反应 客户的需求已为当前亟待改善的重点。

本发明提供一光电元件的客制化生产方法,同时兼顾客户需求及有效率 的生产,以加速产业运用。

发明内容

本发明揭露一光电元件的客制化制造方法。此客制化制造方法包含提供 一生产流程,包含一前段流程、一客制化模块接续此前段流程、以及一寄存 步骤介于此前段流程及此客制化模块之间;并且依前段流程生产一预定数量 的半成品暂停于此寄存步骤,依据一客户要求以调制此客制化模块使符合此 客户要求。

依本发明一实施例,所述的客户要求包含一亮度要求。

依本发明一实施例,所述的客户要求包含一光形或出光角度要求。

依本发明一实施例,所述的客户要求包含一波长要求。

依本发明一实施例,所述的客户要求包含一热阻要求。

依本发明一实施例,所述的客制化模块更包含预置一对照表或对照曲线 用以调制此客制化模块。

依本发明一实施例,所述的光电元件包含发光二极管或太阳能电池。

附图说明

图1为一流程图,显示依本发明的客制化制造方法的一实施例;

图2为一流程图,进一步揭示图1的客制化模块Q1;

图3为一流程图,进一步揭示图1的客制化模块Q2;

图4为一流程图,进一步揭示图1的客制化模块Q3;

图5为一流程图,进一步揭示图1的客制化模块Q4;

图6为一流程图,显示依本发明的客制化制造方法的另一实施例。

附图符号说明

    a1、a2:客制化模块Q1的子模块;

    b1、b2:客制化模块Q2的子模块;

    c1:客制化模块Q3的子模块;

    d1、d2:客制化模块Q4的子模块;

    ap1、ap2、bp1、bp2、cp1、dp1、dp2:客制化参数

    P1:亮度要求;

    P2:光形或出光角度要求;

    P3:波长要求;

    P4:热阻要求;

    Q1-Q4:客制化模块;

    S1-S7:标准流程步骤;

    T1-T5:寄存步骤;

    旁通1-旁通5:旁通步骤。

具体实施方式

图1揭示一符合本发明的客制化生产流程,包括标准流程步骤S1-S7、 介于步骤S4及S5间的客制化模块Q1-Q4、以及于客制化模块Q1-Q4前的一 寄存步骤T1。各步骤说明如下:

S1(成长基板):提供一成长基板,用以成长一半导体磊晶迭层,此成长 基板包括用以成长磷化铝镓铟(AlGaInP)的砷化镓(GaAs)晶片,或用以成长氮 化铟镓(InGaN)的蓝宝石(Al2O3)晶片、氮化镓(GaN)晶片或碳化硅(SiC)晶片, 或用以成长III-V族太阳能电池迭层的硅晶片、锗晶片、或砷化镓晶片;

S2(磊晶成长):在此成长基板上成长一具有光电特性的磊晶迭层,例如 发光(light-emitting)迭层或光伏(photovoltaic)迭层;

S3(晶片检测):以一晶片测试机(testing prober),测试成长基板上的 磊晶迭层是否符合电性要求,如定电压的电流值(Iv);或波长特性如峰波长 值(peak wavelength)或半峰宽幅(half-peak width);

S4(晶粒形成):以微影及蚀刻工艺技术在上述的磊晶迭层定义出多个晶 粒结构及电极区域;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于晶元光电股份有限公司,未经晶元光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810083255.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top