[发明专利]用于调整B1场的方法有效
申请号: | 200810085487.2 | 申请日: | 2008-03-19 |
公开(公告)号: | CN101268942A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 乔尔格·U·方蒂厄斯;弗朗兹·施米特;卡斯滕·威克洛 | 申请(专利权)人: | 西门子公司 |
主分类号: | A61B5/055 | 分类号: | A61B5/055;G01R33/38;G06F19/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 谢强 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 调整 b1 方法 | ||
1.一种用于调节磁共振设备中的B1场的方法,
-其中,从多个测量对象借助于各形态学磁共振测量确定测量对象相对于坐标系的位置,并确定了测量对象的三维可相联系的测量对象数据,
-其中,根据三维测量对象数据确定测量对象的各组织类型,并根据组织类型将测量对象分割为区域,
-其中,将已知的介电特性分别与组织类型相联系,
-其中,将测量对象相对于HF发射线圈的所有位置的分割和相联系性记录在数据组的各条目中,使得数据库包括测量对象的所有条目,
-其中,使用数据库的条目进行用于待确定特征的HF发射线圈和/或HF线圈元件的高频仿真,利用该高频仿真将关于空间元素的电场分布和/或B1场分布确定为仿真结果,并作为结果输入到数据库内,
-其中,为进一步的磁共振检查,将数据库条目用于确定发射线圈的元件的电场分布、SAR分布和优化电流分布,通过所述发射线圈的元件调节B1场。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,通过关于参考坐标轴的取向和相对于发射线圈的位置并通过测量对象到发射线圈的元件的距离确定测量对象的位置。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,为了高频仿真,待确定特征的HF发射线圈的线圈元件具有正常的电流分布或被施加以单位电流。
4.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,作为每个测量对象的测量结果,根据测量对象的位置并根据各测量线圈确定电场和B1场,以及必要时确定SAR值和/或期待的功率损失。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,将仿真结果以“查找表”的形式输入到数据组内。
6.根据权利要求4或5所述的方法,
-其中,对于多个测量对象,对每个空间元素将待确定特征的HS发射线圈的仿真结果平均,
-其中,所述平均涉及在不同的位置处定位在发射线圈内并以不同的状态定位的一组所有测量对象,和/或
-其中,所述平均涉及由测量对象相对于发射线圈的特定的状态和位置和/或从单个的线圈元件的仿真结果形成的所有测量对象的子组,和
-其中,对于电场强度和/或B1场和/或SAR值和/或功率损失计算组的平均值并输入到数据库内。
7.根据权利要求6所述的方法,其中,除平均值外分别确定值的方差、标准差以及与统计上重要的导出参数,并将它们输入到数据库内。
8.根据权利要求4或5所述的方法,其中,由所有测量对象的测量对象数据形成代表性测量对象,该代表性测量对象的空间元素与各仿真结果相联系。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,对于线圈元件在使用数据库条目的条件下确定通过高频仿真优化的电流分布,并将其输入到数据库内。
10.根据权利要求9所述的方法,
-其中,在保持预先给定的或最小的SAR值的条件下确定用于均匀的B1场的电流分布,或
-其中,确定用于可预先给定的SAR值的电流分布。
11.根据权利要求9或10所述的方法,
-其中,以形态学磁共振测量确定其它测量对象的测量对象数据以及测量对象相对于发射线圈的元件的位置,
-其中,根据形态学测量对象数据和/或根据所述位置进行与数据库的对比,并选择与其它测量对象可比较的单个条目,
-其中,将与单个条目相联系的仿真结果用于调节电流分布和/或用于调整电场分布,以便进行对其它测量对象的检查。
12.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,将MPRAGE序列或3D梯度回波信号或适合于区分组织类型的序列类型用于形态学磁共振测量。
13.根据前述权利要求中任一项所述的方法,其中,磁导率常数和/或损失因数和/或传导率的值或值范围与区域相联系。
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