[发明专利]图像形成装置有效

专利信息
申请号: 200810085587.5 申请日: 2008-03-19
公开(公告)号: CN101271304A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 藤岛正之;坂田昌一;中植隆久;井上丰常;渡边昭宏;森幸广 申请(专利权)人: 京瓷美达株式会社
主分类号: G03G15/08 分类号: G03G15/08;G03G9/08;G03G15/01
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 代理人: 李雪春;武玉琴
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 形成 装置
【权利要求书】:

1.一种图像形成装置,其特征在于包括:

感光体,形成潜影;

显影辊,用第一偏压使所述感光体上形成的潜影显影;

磁辊,用具有载体和调色剂的双成分显影剂形成磁刷,用第二偏压在所述显影辊上形成调色剂薄层;以及

偏压施加部,对所述显影辊及所述磁辊施加偏压,其中,

所述第一偏压包含矩形波的第一交流偏压,

所述调色剂的体积平均颗粒直径用Dt表示,所述显影辊表面的固有电阻率用pv表示,所述显影辊表面的算术平均粗糙度用Ra表示,所述第一交流偏压的负荷比用D1表示,在以调色剂从所述显影辊往所述感光体的方向的电压的施加期间为正来求出所述负荷比D1的情况下,满足下面的各关系:

调色剂的个数粒度分布的CV值在25%以下,

4μm≤Dt≤7μm,

105Ω·cm≤pv≤109Ω·cm,

0.4μm≤Ra≤1.5μm,

35%≤D1≤75%。

2.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述第一交流偏压的负荷比D1满足下式关系:45%≤D1≤60%。

3.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述第二偏压包含矩形波的第二交流偏压,

设第二交流偏压的负荷比为D2,在以调色剂从磁辊往所述显影辊的方向的电压的施加期间为正来求出所述负荷比D2的情况下,所述负荷比D1、D2满足下式关系:D1>100-D2。

4.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述偏压施加部包括产生偏压的第一电源及第二电源,

所述第一电源的偏压作为所述第一偏压施加于所述显影辊,

重叠了所述第一电源的偏压和所述第二电源的偏压的偏压,作为所述第二偏压施加于所述磁辊。

5.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

当用Dc表示所述载体的重量平均颗粒直径时,满足下式关系:

25μm≤Dc≤45μm。

6.根据权利要求1所述的图像形成装置,其特征在于,

所述感光体的圆周速度为180mm/sec以上。

7.一种图像形成装置,其特征在于包括:

感光体,形成潜影;

显影辊,用第一偏压使所述感光体上形成的潜影显影;

磁辊,用具有载体和调色剂的双成分显影剂形成磁刷,用第二偏压在所述显影辊上形成调色剂薄层;以及

偏压施加部,包括产生偏压的第一电源及第二电源,对所述显影辊及所述磁辊施加偏压,其中,

所述第一电源的偏压作为所述第一偏压施加于所述显影辊,

重叠了所述第一电源的偏压和所述第二电源的偏压的偏压,作为所述第二偏压施加于所述磁辊,

所述第一偏压包括矩形波的第一交流偏压,所述第二偏压包括矩形波的第二交流偏压,

所述调色剂的体积平均颗粒直径用Dt表示,所述显影辊表面的固有电阻率用pv表示,所述显影辊表面的算术平均粗糙度用Ra表示,所述第一交流偏压的负荷比用D1表示,所述第二交流偏压的负荷比用D2表示,在以调色剂从所述显影辊往所述感光体的方向的电压的施加期间为正来求出所述负荷比D1,以调色剂从所述磁辊往所述显影辊的方向的电压的施加期间为正来求出所述负荷比D2的情况下,满足下面的各关系:

调色剂的个数粒度分布的CV值在25%以下,

4μm≤Dt≤7μm,

105Ω·cm≤pv≤109Ω·cm,

0.4μm≤Ra≤1.5μm,

35%≤D1≤75%,

D1>100-D2。

8.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,

所述第一交流偏压的负荷比D1满足下式关系:45%≤D1≤60%。

9.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,

当用Dc表示所述载体的重量平均颗粒直径时,满足下式关系:25μm≤Dc≤45μm。

10.根据权利要求7所述的图像形成装置,其特征在于,

所述感光体的圆周速度为180mm/sec以上。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京瓷美达株式会社,未经京瓷美达株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810085587.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top