[发明专利]投影光学系统、曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种投影光学系统，为一种将第1面的缩小像形成在第2面上的反射折射型的投影光学系统，适用于浸液法，其特征在于：

前述投影光学系统包括2片反射镜与边界透镜，其中前述边界透镜的朝向前述第1面侧的面具有正的折射力；

在将前述第1面的缩小像形成在前述第2面上的期间，当使前述投影光学系统的光路中的环境的折射率为1时，前述边界透镜和前述第2面间的光路由具有较1.1大的折射率的液体充满；

构成前述投影光学系统的所有的透射构件及具有折射力的所有的反射构件沿单一的光轴进行配置；

前述投影光学系统具有有效成像区域，其中前述有效成像区域的形状为不含有前述光轴的预定形状；以及

前述投影光学系统所具有的前述2片反射镜，包括配置于光的入射侧的入射侧反射镜，以及配置在光的射出侧且反射来自前述入射侧反射镜的光的射出侧反射镜，

前述入射侧反射镜与前述射出侧反射镜之间的光路中未配置透镜。

2.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统的射出瞳不具有遮蔽区域。

3.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有的所有的有效成像区域存在于与前述光轴间隔预定距离的区域中。

4.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统包括：具有前述2个反射镜并用于形成前述第1面的第1中间像与第2中间像的第1成像光学系统、将前述第2中间像在前述第2面上进行中继的第2成像光学系统。

5.根据权利要求4所述的投影光学系统，其特征在于：前述2片反射镜具有至少1个凹面反射镜。

6.根据权利要求5所述的投影光学系统，其特征在于：前述投影光学系统具有偶数个反射镜。

7.根据权利要求6所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1成像光学系统含有至少6个反射镜，并形成前述第1面的第1中间像及第2中间像；

前述第2成像光学系统将前述第2中间像在前述第2面上进行中继。

8.根据权利要求7所述的投影光学系统，其特征在于：在前述第1成像光学系统所包含的前述至少6个反射镜中，在从前述第1面所射出的光第2个入射的反射镜，和从前述第1面所射出的光第4个入射的反射镜之间，形成前述第1中间像。

9.根据权利要求8所述的投影光学系统，其特征在于：前述第1成像光学系统包括具有正的折射力的第1透镜群、在该第1透镜群和前述中间像的光路中配置的第1反射镜以及在该第1反射镜和前述中间像的光路中配置的第2反射镜。

10.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：前述第2成像光学系统为只由多个透射构件构成的折射光学系统。

11.根据权利要求10所述的投影光学系统，其特征在于：构成前述第2成像光学系统的透射构件的数目的70％以上的数目的透射构件由石英形成。

12.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：还包含至少一个瞳位置，且在至少一个瞳位置中最靠近第2面侧瞳位置与前述第2面之间的光路所配置的透镜为正透镜。

13.根据权利要求1所述的投影光学系统，其特征在于：还包括配置在前述边界透镜与前述第2面之间的光路中，大致上无折射力的光透射性光学构件。

14.一种曝光装置，为一种将掩膜上所形成的图案在感光性基片上进行曝光的曝光装置，其特征在于：包括：

用于对前述第1面上所设定的前述掩膜进行照明的照明系统；

用于将在前述掩膜上所形成的前述图案像，形成在前述第2面上所设定的感光性基片上的权利要求1至13中的任一项所述的投影光学系统。

15.根据权利要求14所述的曝光装置，其特征在于：前述照明系统供给对前述第2面形成S偏光的照明光。

16.根据权利要求15所述的曝光装置，其特征在于：对前述投影光学系统，使前述掩膜及前述感光性基片沿预定方向进行相对移动，并将前述掩膜的图案向前述感光性基片上进行投影曝光。