[发明专利]导电性材料的制造方法及制造装置无效
申请号: | 200810086243.6 | 申请日: | 2008-03-24 |
公开(公告)号: | CN101270493A | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 冈崎贤太郎;山崎高康 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | C25D5/02 | 分类号: | C25D5/02;C25D5/54 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 材料 制造 方法 装置 | ||
1、一种导电性材料的制造方法,其是在具有导电性金属部(16)的被镀材料(32)上实施镀覆处理来形成导电层,其特征在于,该方法包括通电工序,所述通电工序是在所述镀覆处理的前一阶段,以所述导电性金属部(16)作为阴极,将所述被镀材料(32)在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电。
2、根据权利要求1所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解液含有电解质和溶剂。
3、根据权利要求2所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解质为选自由碱金属盐、铵盐、高氯酸盐和硼酸盐组成的组中的至少一种。
4、根据权利要求2所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述溶剂为水和/或非水溶剂。
5、根据权利要求4所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述非水溶剂为选自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氢呋喃组成的组中的至少一种。
6、根据权利要求1所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述镀覆处理为非电解镀覆处理和/或电镀处理。
7、根据权利要求6所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电镀处理为电镀铜和/或电镀黑化处理。
8、一种导电性材料的制造方法,其特征在于,该方法包括:
金属银部形成工序,该工序将在支撑体(12)上具有含银盐的银盐乳剂层(28)的感光薄膜进行曝光、显影,从而形成金属银部(16);
通电工序,该工序将所述金属银部(16)作为阴极,在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电;
镀覆工序,该工序在所述通电后的金属银部(16)上实施镀覆处理,从而形成导电层。
9、根据权利要求8所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解液含有电解质和溶剂。
10、根据权利要求9所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解质为选自由碱金属盐、铵盐、高氯酸盐和硼酸盐组成的组中的至少一种。
11、根据权利要求9所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述溶剂为水和/或非水溶剂。
12、根据权利要求11所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述非水溶剂为选自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氢呋喃组成的组中的至少一种。
13、根据权利要求8所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述镀覆处理为非电解镀覆处理和/或电镀处理。
14、根据权利要求13所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电镀处理为电镀铜和/或电镀黑化处理。
15、一种导电性材料的制造装置,其是在具有导电性金属部(16)的被镀材料(32)上实施镀覆处理来形成导电层的导电性材料的制造装置,其特征在于,该装置包括:
通电处理装置(106),该通电处理装置(106)具有供电辊(102)和通电处理槽(130),所述供电辊(102)与所述导电性金属部(16)接触并进行供电,所述通电处理槽(130)配置在比所述供电辊(102)更靠所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧上,并将所述导电性金属部(16)在电解液(128)内进行通电处理;
镀覆装置,该镀覆装置设置在所述通电处理装置(106)的后段,并在所述导电性金属部(16)上进行镀覆处理。
16、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述供电辊(102)的氢过电压比所述导电性金属部(16)的氢过电压大。
17、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)和/或电镀处理装置(110)。
18、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)和电镀处理装置(110),且朝向所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧依次设置有非电解镀覆处理装置(108)和电镀处理装置(110)。
19、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)、电镀处理装置(110)以及电镀黑化处理装置(111),且朝向所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧依次设置有非电解镀覆处理装置(108)、电镀处理装置(110)和电镀黑化处理装置(111)。
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