[发明专利]导电性材料的制造方法及制造装置无效

专利信息
申请号: 200810086243.6 申请日: 2008-03-24
公开(公告)号: CN101270493A 公开(公告)日: 2008-09-24
发明(设计)人: 冈崎贤太郎;山崎高康 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C25D5/02 分类号: C25D5/02;C25D5/54
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 导电性 材料 制造 方法 装置
【权利要求书】:

1、一种导电性材料的制造方法,其是在具有导电性金属部(16)的被镀材料(32)上实施镀覆处理来形成导电层,其特征在于,该方法包括通电工序,所述通电工序是在所述镀覆处理的前一阶段,以所述导电性金属部(16)作为阴极,将所述被镀材料(32)在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电。

2、根据权利要求1所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解液含有电解质和溶剂。

3、根据权利要求2所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解质为选自由碱金属盐、铵盐、高氯酸盐和硼酸盐组成的组中的至少一种。

4、根据权利要求2所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述溶剂为水和/或非水溶剂。

5、根据权利要求4所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述非水溶剂为选自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氢呋喃组成的组中的至少一种。

6、根据权利要求1所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述镀覆处理为非电解镀覆处理和/或电镀处理。

7、根据权利要求6所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电镀处理为电镀铜和/或电镀黑化处理。

8、一种导电性材料的制造方法,其特征在于,该方法包括:

金属银部形成工序,该工序将在支撑体(12)上具有含银盐的银盐乳剂层(28)的感光薄膜进行曝光、显影,从而形成金属银部(16);

通电工序,该工序将所述金属银部(16)作为阴极,在实质上不含镀覆物质的电解液中进行通电;

镀覆工序,该工序在所述通电后的金属银部(16)上实施镀覆处理,从而形成导电层。

9、根据权利要求8所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解液含有电解质和溶剂。

10、根据权利要求9所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电解质为选自由碱金属盐、铵盐、高氯酸盐和硼酸盐组成的组中的至少一种。

11、根据权利要求9所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述溶剂为水和/或非水溶剂。

12、根据权利要求11所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述非水溶剂为选自由酰胺、吡咯烷酮、腈、酮和四氢呋喃组成的组中的至少一种。

13、根据权利要求8所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述镀覆处理为非电解镀覆处理和/或电镀处理。

14、根据权利要求13所述的导电性材料的制造方法,其特征在于,所述电镀处理为电镀铜和/或电镀黑化处理。

15、一种导电性材料的制造装置,其是在具有导电性金属部(16)的被镀材料(32)上实施镀覆处理来形成导电层的导电性材料的制造装置,其特征在于,该装置包括:

通电处理装置(106),该通电处理装置(106)具有供电辊(102)和通电处理槽(130),所述供电辊(102)与所述导电性金属部(16)接触并进行供电,所述通电处理槽(130)配置在比所述供电辊(102)更靠所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧上,并将所述导电性金属部(16)在电解液(128)内进行通电处理;

镀覆装置,该镀覆装置设置在所述通电处理装置(106)的后段,并在所述导电性金属部(16)上进行镀覆处理。

16、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述供电辊(102)的氢过电压比所述导电性金属部(16)的氢过电压大。

17、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)和/或电镀处理装置(110)。

18、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)和电镀处理装置(110),且朝向所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧依次设置有非电解镀覆处理装置(108)和电镀处理装置(110)。

19、根据权利要求15所述的导电性材料的制造装置,其特征在于,所述镀覆装置具有非电解镀覆处理装置(108)、电镀处理装置(110)以及电镀黑化处理装置(111),且朝向所述被镀材料(32)的输送方向的下流侧依次设置有非电解镀覆处理装置(108)、电镀处理装置(110)和电镀黑化处理装置(111)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士胶片株式会社,未经富士胶片株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810086243.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top