[发明专利]改变化学电阻传感器的灵敏度和/或选择性的方法无效

专利信息
申请号: 200810088180.8 申请日: 2008-03-28
公开(公告)号: CN101368924A 公开(公告)日: 2009-02-18
发明(设计)人: Y·约瑟夫;T·沃斯迈耶;安田章夫 申请(专利权)人: 索尼德国有限责任公司
主分类号: G01N27/12 分类号: G01N27/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 段晓玲;范赤
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 改变 化学 电阻 传感器 灵敏度 选择性 方法
【权利要求书】:

1.改变化学电阻传感器的灵敏度和/或选择性的方法,所述化学电阻传 感器包括具有被包埋在非导电性基质中的许多导电性或半导电性颗 粒的敏感层,该敏感层包括许多可氧化的化学官能团,所述方法包 括以下步骤:

让所述敏感层进行氧化反应,

其特征在于所述方法应用于多个化学电阻传感器的化学电阻 传感器阵列,各所述传感器具有所述敏感层,其中不同所述传感器 的所述敏感层进行氧化反应到不同程度。

2.根据权利要求1的方法,其特征在于所述氧化反应是受控制的氧化 反应而没有让该传感器未受规定地暴露于空气。

3.根据权利要求1的方法,其特征在于所述氧化反应是通过气相的反 应和/或通过液相的反应。

4.根据权利要求3的方法,其特征在于所述反应包括下列气相反应中 的任何一种或几种:

-让所述敏感层在规定的空气温度下暴露于空气达到规定的一 段时间,

-让所述敏感层暴露于臭氧,

-让所述敏感层暴露于氧等离子体,

-让所述敏感层暴露于SO3

-让所述敏感层暴露于氮氧化物。

5.根据权利要求3的方法,其特征在于所述氧化反应包括下列液相反 应中的任何一种或几种:

-让所述敏感层暴露于过氧化氢水溶液,

-让所述敏感层暴露于KMnO4水溶液。

6.根据权利要求4-5中任何一项的方法,其特征在于所述暴露是通过 使用在180-1200nm范围内的波长的电磁辐射辐射所述敏感层下发 生。

7.根据权利要求4的方法,其特征在于所述暴露于臭氧、氧等离子体、 SO3或氮氧化物的过程经历了在1秒至600秒范围内的一段时间。

8.根据权利要求1的方法,其特征在于,在所述敏感层内,可氧化的 化学官能团被所述氧化反应氧化。

9.根据权利要求8的方法,其特征在于仅仅一定比例的所述许多可氧 化的化学官能团被所述氧化反应氧化。

10.根据权利要求1的方法,其特征在于所述导电性或半导电性颗粒是 具有<1μm的平均直径的颗粒。

11.根据权利要求10的方法,其特征在于所述颗粒是金属颗粒或半导体 颗粒。

12.根据权利要求10的方法,其特征在于所述颗粒选自金属颗粒、半导 电性纳米粒子、从有机材料形成的导电性或半导电性纳米粒子。

13.根据权利要求12的方法,其特征在于所述金属颗粒是贵金属颗粒, 造币用金属颗粒,或这些金属在单个纳米粒子中的结合。

14.根据权利要求13的方法,其特征在于所述贵金属颗粒是Au、Pt、 Ag、或Pd颗粒,所述造币用金属颗粒是Cu、Ni、或Fe颗粒,所 述这些金属在单个纳米粒子中的结合是合金或芯/壳金属纳米粒子。

15.根据权利要求12的方法,其特征在于所述半导电性纳米粒子为II/VI 半导体粒子或III/V半导体粒子。

16.根据权利要求15的方法,其特征在于II/VI半导体粒子为CdS、CdSe、 CdTe、ZnS、ZnSe、ZnTe、HgS、HgSe、或HgTe粒子,所述III/V 半导体粒子为GaAs、或InP粒子。

17.根据权利要求12的方法,其特征在于所述从有机材料形成的导电性 或半导电性纳米粒子是导电聚合物粒子。

18.根据权利要求12的方法,其特征在于所述导电性颗粒是炭黑颗粒或 金属装饰的炭黑颗粒。

19.根据权利要求18的方法,其特征在于所述金属装饰的炭黑颗粒是 Pt/炭黑或PtRu/炭黑纳米粒子。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼德国有限责任公司,未经索尼德国有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810088180.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top