[发明专利]成像装置及其方法有效

专利信息
申请号: 200810088643.0 申请日: 2008-04-10
公开(公告)号: CN101329540A 公开(公告)日: 2008-12-24
发明(设计)人: 李宣雨 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G03G21/06 分类号: G03G21/06;G03G15/00;G03G15/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 钱大勇
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 成像 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种成像装置包括:

静电消除器,从打印介质中去掉静电电荷;

选择器,有选择地将该静电消除器通过第一电阻器或第二电阻器连接到 地;和

控制器,根据该打印介质的至少一个特性来确定该打印介质是高电阻打 印介质还是低电阻打印介质,以控制该选择器,

其中,当确定该打印介质是高电阻打印介质时,该控制器控制该选择器 从第一电阻器和第二电阻器中选择具有最高电阻的电阻器,并且当确定该打 印介质是低电阻打印介质时,该控制器控制该选择器从第一电阻器和第二电 阻器中选择具有最低电阻的电阻器。

2.如权利要求1所述的装置,其中,该选择器包括:

第一连接线,其将该静电消除器通过第一电阻器与地连接;和

第二连接线,其将该静电消除器通过第二电阻器与地连接,其中该选择 器选择第一连接线或第二连接线。

3.如权利要求1所述的装置,其中,该控制器根据打印介质类型或打 印方式确定打印介质特性为高电阻打印介质或低电阻打印介质。

4.如权利要求1所述的装置,其中,该控制器由预定打印选项的设置 值来确定打印介质特性。

5.如权利要求4所述的装置,其中,该控制器确定打印介质选项是否 被设置为高电阻打印介质值以及单面/双面打印选项是否被设置为双面打印 值中的至少一个,并且在其中的确定为肯定时,该控制器控制该选择器从第 一电阻器和第二电阻器中选择具有最高电阻的电阻器。

6.如权利要求4所述的装置,其中,该控制器确定打印介质选项是否 被设置为一般目的打印介质值以及单面/双面打印选项是否被设置为单面打 印值二者,并且在其中的确定为肯定时,该控制器控制该选择器从该第一电 阻器和第二电阻器中选择具有最低电阻的电阻器。

7.如权利要求1所述的装置,其中,该控制器由流过该静电消除器的 电流来确定打印介质特性,并且根据确定的打印介质特性来控制该选择器。

8.如权利要求1所述的装置,其中,该控制器测量在电阻测量辊和驱 动辊之间的打印介质的电阻,根据所测量的电阻来确定打印介质特性,并根 据所确定的打印介质特性来控制该选择器。

9.一种成像方法包括:

确定至少一个打印介质特性;

根据确定的打印介质特性选择从静电消除器经过多个电阻器中的一个 到地的电流传导路径;以及

利用通过所选电流传导路径连接到地的静电消除器,从具有所确定的打 印介质特性的打印介质中去掉静电电荷,

其中,所述根据确定的打印介质特性选择从静电消除器经过多个电阻器 中的一个到地的电流传导路径包括:

根据确定的打印介质特性来判断打印介质是高电阻打印介质还是低电 阻打印介质,并且当确定该打印介质是高电阻打印介质时,选择高电阻的电 阻器在传导路径中,且当确定该打印介质是低电阻打印介质时,选择低电阻 的电阻器在传导路径中。

10.如权利要求9所述的方法,其中,该打印介质特性的确定包括根据 打印介质类型或打印方式指示该打印介质特性为高电阻打印介质或低电阻 打印介质。

11.如权利要求9所述的方法,其中,该确定由预定打印选项的设置值 来确定打印介质特性。

12.如权利要求11所述的方法,其中,如果该特性的确定确定高电阻 打印介质选项和双面打印选项中的至少一个被设置为打印选项,则该传导路 径的选择选择高电阻的电阻器在传导路径中。

13.如权利要求11所述的方法,其中,如果该特性的确定确定一般目 的打印介质选项和单面打印选项被设置为打印选项,则该传导路径的选择选 择低电阻的电阻器在传导路径中。

14.如权利要求9所述的方法,其中,该确定包括测量打印介质的电阻, 并根据所测量的电阻来确定打印介质特性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星电子株式会社,未经三星电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200810088643.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top