[发明专利]触控电路的透明基板双面导电膜的制法

权利要求书

1.一种触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，包含：

在一透明基板的第一表面的一第一导电基材层上附着一具有感光变色剂的第一光阻层，并在该透明基板的第二表面的一第二导电基材层上附着一第二光阻层；

对该第一光阻层进行曝光，促使该第一光阻层接受曝光区域形成一具供识别颜色的电路图形；

利用该电路图形作为第二光阻层曝光用的对位基准进行位置调整，并对该第二光阻层进行曝光；

对该透明基板双面同时进行显影，使第一导电基材层及第二导电基材层各自裸露出一待接受蚀刻的区域；

对第一导电基材层及第二导电基材层裸露的区域同时进行蚀刻，促使第一导电基材上层形成一触控电路的一第一导电膜，且第二导电基材上层形成该触控电路的一第二导电膜。

2.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板为一触控板的透明基板或一显示面板的上层透明基板。

3.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中光阻层为正光阻或负光阻。

4.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一导电基材层与该第二导电基材层由透明的导电材料制成。

5.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一光阻层使用一具镂空电路图样的第一光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，该第二光阻层也使用一具镂空电路图样的第二光罩覆盖而接受紫外线光进行曝光，且第一光阻层使用的具镂空电路图样作为第二光阻层与第二光罩的对位基准。

6.如权利要求5所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该第一光阻层与该第二光阻层为非同步曝光。

7.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中还包含：在该第一导电膜与该第二导电膜形成后一同以除光阻剂除去残余的第一及第二光阻层，完全裸露第一导电膜与第二导电膜。

8.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该感光变色剂为有机双键烯类物质所组成。

9.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板的第一表面位于该透明基板的顶面，该第一导电基材层位于该透明基板顶面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的底面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜。

10.如权利要求1所述的触控电路的透明基板双面导电膜的制法，其特征在于，其中该透明基板的第一表面是位于该透明基板的底面，该第一导电基材层位于该透明基板底面的下导电基材层且形成该触控电路的下层导电膜，该透明基板的第二表面是位于该透明基板的顶面，该第二导电基材层位于该透明基板底面的上导电基材层且形成该触控电路的上层导电膜。