[发明专利]光信息记录介质和光信息记录介质的制造方法有效
申请号: | 200810090054.6 | 申请日: | 2008-03-31 |
公开(公告)号: | CN101303867A | 公开(公告)日: | 2008-11-12 |
发明(设计)人: | 田畑浩;须本宇航 | 申请(专利权)人: | 日本胜利株式会社 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/252;G11B7/26 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈建全;姚晖 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 信息 记录 介质 制造 方法 | ||
技术领域
本发明涉及利用例如激光来记录或再现信息的光信息记录介质和光信息记录介质的制造方法,特别涉及具有将记录层设置于光信息记录介质的一个表面附近的结构的追记型光信息记录介质和光信息记录介质的制造方法。
背景技术
以往,作为利用激光来记录或再现信息的光信息记录介质,虽然DVD是主流,但是记录容量比DVD大的蓝光光盘(Blu-ray Disc)正在出现并普及。DVD和蓝光光盘(以下简称为BD)的形状虽然都是直径12cm、厚1.2mm的圆盘状,但是具有如下的不同点。在DVD中记录层位于距离其厚度的中心、即距离光信息记录介质的两面0.6mm的位置,对该记录层利用650nm的红色波长的激光进行记录再现。
另一方面,在BD中记录层位于距离光信息记录介质的一个面0.1mm的位置,对该记录层利用405nm的蓝紫色波长的激光进行记录再现。就BD而言,通过在使激光短波长化的同时,增大物镜的数值孔径(NA),来使记录标记比DVD中的还小,从而提高记录密度。BD的一般的层结构是在厚1.1mm的树脂基板上至少具有反射膜、第1电介质膜、记录膜、第2电介质膜、覆盖层的结构。除了树脂基板以外,反射膜、第1电介质膜、记录膜、第2电介质膜、覆盖层等总计具有0.1mm的厚度。
根据发明人的研究,如果将目前市售的BD在高温多湿的环境下放置一定时间,则可判明再现信号变差。将光信息记录介质置于高温多湿的环境下的试验是在短时间内推定光信息记录介质的长期可靠性的方法,例如一般是在80℃85%RH的环境下放置96小时。这相当于在通常的环境下(25℃30%RH)保存数十年~数百年。另外,长期可靠性的特性可以通过例如使用测量仪测量平均SER(Symbol Error Rate)来判定。上述再现信号的劣化可以作为平均SER的劣化进行观测。可推定再现信号劣化的原因是,大气中的水分到达记录膜和反射膜的任何一方或者双方,在这些膜自身上产生了某种反应,或者在这些膜和相邻的膜之间产生了某种反应。另外,记录膜或反射膜由于某种反应而劣化时,也会给在记录膜上的信息记录带来不好的影响。
作为解决这种因大气中的水分浸入光信息记录介质内部而产生的问题的提案,在专利文献1(日本特开2006-294169号公报)中有记载。在专利文献1中记载的发明是在由有机材料构成的记录层和覆盖层之间设置调整水分透过率的中间层的技术。作为该中间层,记载了使用含有至少一种Nb(铌),Al(铝),Si(硅)的氧化物或氮化物、含有Zn(锌)的硫化物。
[专利文献1]:日本特开2006-294169号公报
本发明人对于具有无机记录膜的光信息记录介质,通过试制设置有由Nb2O5形成的中间层的光信息记录介质而进行了评价长期可靠性的实验,结果可知,在高温多湿的环境下放置后,平均SER严重恶化,仅就专利文献1中记载的发明而言就不能充分确保长期可靠性。在专利文献1中,比较了在高温多湿的环境下放置前后的再现抖动(jitter),但是仅抑制抖动的变化是不够的,还要求长期可靠性更优异的光信息记录介质。
发明内容
本发明是鉴于这种问题而提出的,目的是提供可抑制大气中的水分到达记录膜或反射膜、长期可靠性优异的光信息记录介质和光信息记录介质的制造方法。
本发明为了解决上述以往的技术课题,提供一种光信息记录介质,其特征在于,具备:基板(1),被射入用于记录或再现信息的光的覆盖层(9),在上述基板和上述覆盖层之间从上述基板侧开始依次层叠的反射膜(2)、第1电介质膜(4)、记录膜(5)、第2电介质膜(6),以及设置在上述第2电介质膜和上述覆盖层之间、并且含有铟氧化物的至少一部分为无定形的防湿膜(7)。
在这里,上述防湿膜优选含有锡氧化物、钨氧化物和铈氧化物中的至少一种。
另外,上述防湿膜优选含有20mol%以上但低于80mol%的锡氧化物。
此外,在以上的结构中,优选在上述第2电介质膜和上述覆盖层之间具有保护膜,并且上述防湿膜设置于上述第2电介质膜和上述保护膜之间。
本发明为了解决上述以往的技术课题,提供一种光信息记录介质的制造方法,其特征在于,包括以下工序:在基板(1)上通过溅射至少依次层叠反射膜(2)、第1电介质膜(4)、记录膜(5)、第2电介质膜(6)的工序,在上述第2电介质膜上通过溅射层叠防湿膜(7)的工序,上述溅射使用了添加有锡氧化物、钨氧化物和铈氧化物中的至少一种的铟氧化物的靶,在上述防湿膜上通过旋涂形成保护膜(8)的工序和在上述保护膜上粘贴覆盖层(9)的工序。
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