[发明专利]自动清洗承载平台装置

说明书

技术领域

本发明属一种平台清洁装置技术领域，是对现有技术进步改进，具体涉及一种自动清洗承载平台装置。

背景技术

光阻涂布设备的洁净度在微影制程良率上扮演相当重要的角色，光阻涂布设备容易沾染灰尘粒子或光阻凝固物质，进而影响涂布的质量，因此，维护涂布平台上的洁净度相当重要。

一般来说光阻涂布装置(linear coater unit)是以精度相当高的喷嘴(nozzle)做涂布(coating)，目前经常在喷嘴平台(nozzle stage)上发生很多异常，而必须以人力方式在平台上以无尘布或吸尘器做清洁，此种方式会造成许多问题，例如：

1.人员在清洁机台时有可能在保养时造成零件(如：喷嘴、线性马达等损坏)。

2.由于平台之价格相当昂贵，人员进行清洁机台时可能造成平台本体损伤的可能。

3.人员清洁机台时间较长，洁净度也较差，且清洁液、无尘布等耗材损失花费相当可观。

4.若洁净度不佳将造成机台后续异常发生，或后续玻璃背面刮伤之风险。

例如我国台湾专利公告号第M292784号之专利申请提供一种光阻涂布设备之组件洁净装置，为其并无针对喷嘴平台(nozzle stage)做重点式清洁，所以清洁效果有限，此外该专利申请为一可拆卸之移动装置，欲清洁时组装时间相对较为耗时。又如我国台湾专利公告号第I287472号，一种尘埃清净器，主要为一除尘装置，针对于平台上做清洁，其系具有一空气吸入室及一空气喷出室，可对被除尘对象喷出洗涤空气，令尘埃自被除尘对象飞散，接着将尘埃吸入空气吸入室，达到清洁效果，但该尘埃清净器对被除尘对象喷出洗涤空气时，并无法有效控制尘埃之飞溅方向，经常使尘埃扩散，造成二次污染。

发明内容

本发明的目的是避免上述现有技术中的不是之处而提供的一种自动清洗承载平台装置，该自动清洗承载平台装置能更有效清除附于平台上之异物；能有效降低人为造成机台对象的损伤；能缩短清理平台之时间，有效降低保养时间，增加生产时效；能降低因清洁效率不佳造成的后续当机异常，有效降低成本。

本发明的目的可通过下列的措施来实现：

一种自动清洗承载平台系统，其系做一往复作动以清洁平台，该自动清洗承载平台系统包括：一支撑架，其系位于一系统运作机台；一第一开口部份，其系位于该支撑架上方；一第二开口部份，其系位于该支撑架上方并与第一开口部份连结；一档片，其系位于该第一开口部份与该第二开口部份侧边。

上述所述支撑架与承载平台间设有一机构垫片组，增加缓冲降低震动所带来之损伤。

上述所述第一开口部份前端系为一吹气孔，其吹出气流可将平台上之异物吹起。

上述所述吹气孔有一角度设计30-50度，以利异物吹起。

上述所述第一开口部份后端接续为一高真空管路快速接头，其系为连接厂物端来源及该吹气装置。

上述所述第一开口部份之流道中更包含一过滤装置，可过滤干燥空气。

上述所述过滤装置可为一可更换式干燥滤网。

上述所述过滤装置可为一可静电式干燥滤网。

上述所述第二开口部份前端为一吸气孔，可供吸入气流通过，其吸入气流可将该平台上之异物吸入流道。

上述所述第二开口部份后端接续为一高真空管路快速接头，其系为连接厂物端来源及该吸气装置。

上述所述第二开口部份之流道中更包含一黏片滚筒，其系位于该吸气装置出口处。

上述所述黏片滚筒系为一可拆换式黏片滚筒，可辅助并加强吸附后之异物掉落之可能性。

上述所述黏片滚筒系为一可自动化更换式黏片滚筒，可由自动化机构自动更换新的黏片滚筒。

上述所述第二开口部份之流道上包含一吸气装置角度调节栓，该角度调节栓可调节吸气装置与承载平台之角度。

上述所述角度调节栓系为一手动旋钮式微调装置。

上述所述角度调节栓系为一自动化调整之微调装置。

上述所述自动清洗承载平台系统于回复时只可进行吸气之动作。

上述所述文件片为一隔档硬物，其系可清除较大之突起物。

上述所述文件片为可调式档片，可调整档片与承载平台之距离。

上述所述文件片与第一开口部份及第二开口部份间有一异物回流空间，避免吹出气流于平台上造成扰流而将异物扩散。

上述所述支撑架可做为一龙门式架构。