[发明专利]布线基板的制造方法有效

专利信息
申请号: 200810090749.4 申请日: 2008-03-31
公开(公告)号: CN101277592A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 井场政宏;齐木一;杉本笃彦 申请(专利权)人: 日本特殊陶业株式会社
主分类号: H05K3/46 分类号: H05K3/46;H01L21/48
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 钟强;关兆辉
地址: 日本爱知*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 布线 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种布线基板(1)的制造方法,其特征在于,具有以下工序:

将多个导体层(M1、M11、M2、M12)和多个树脂绝缘层(V1、V11、V2、V12)按该顺序层积于基板(2)上;

在层积有上述导体层(M1、M11、M2、M12)和上述树脂绝缘层(V1、V11、V2、V12)的基板(1’)上形成对位标记(50a、50b);

在形成有上述对位标记(50a、50b)的基板(1’)上设置感光性材料(DF、SR1、SR11)

以上述对位标记(50a、50b)为基准,对由包括上述对位标记(50b)的边界区域(151)划分的多个曝光区域(150)的上述感光性材料(DF、SR1、SR11)依次进行曝光;以及

在上述基板(1’)的上述多个曝光区域(150)之间,以与上述边界区域(151)的宽度大致相同的切断宽度在上述对位标记(50b)上进行切断,消除上述对位标记(50b)。

2.一种布线基板(1)的制造方法,其特征在于,具有以下工序:

将多个导体层(M3、M13)和多个具有感光性的树脂绝缘层(SR1、SR11)按该顺序层积于基板(2)上;

在层积有上述导体层(M3、M13)和上述树脂绝缘层(SR1、SR11)的基板(1’)上形成对位标记(50a、50b)

以上述对位标记(50a、50b)为基准,对由包括上述对位标记(50b)的边界区域(151)划分的多个曝光区域(150)的上述树脂绝缘层(SR1、SR11)依次进行曝光;以及

在上述基板(1’)的上述多个曝光区域(150)之间,以与上述边界区域(151)的宽度大致相同的切断宽度在上述对位标记(50b)上进行切断,消除上述对位标记(50b)。

3.根据权利要求1或2所述的布线基板(1)的制造方法,其特征在于,形成上述对位标记(50a、50b)的工序包括向上述树脂绝缘层(V1、V11、V2、V12、SR1、SR11)的主表面照射激光,将上述导体层(M1、M11、M2、M12、M3、M13)露出的工序。

4.根据权利要求1~3中任一项所述的布线基板(1)的制造方法,其特征在于,上述切断宽度在1.0mm以下。

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