[发明专利]曝光图案数据检查装置、方法以及程序有效
申请号: | 200810091798.X | 申请日: | 2008-04-16 |
公开(公告)号: | CN101334589A | 公开(公告)日: | 2008-12-31 |
发明(设计)人: | 八坂智 | 申请(专利权)人: | 大日本网目版制造株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 马少东;徐恕 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 图案 数据 检查 装置 方法 以及 程序 | ||
技术领域
本发明是关于曝光图案数据检查装置、方法以及程序,特别是关于为了检查曝光装置中的印刷电路板的直接描绘工序所使用的曝光图案数据的曝光图案数据检查装置、方法以及程序。
背景技术
以往,印刷电路板的制造工序一般的方式是,通过将应该形成在基板上的配线图案暂时曝光在胶片上来作成掩模后,根据使用该掩模的曝光处理在基板上描绘图案的方式(以下均称为掩模方式)。近年,不再通过作成掩模,而是采用根据表示图案的光栅数据(以下均称为曝光图案数据)用激光在基板上直接描绘的方式。
在通过掩模方式制造印刷电路板的情况下,根据CAD(Computer AidedDesign:计算机辅助设计)系统、CAM(Computer Aided Manufacturing:计算机辅助制造)系统所作成的设计数据作成掩模之后,通过检查该掩模,可以提高印刷电路板的信赖性。
另外,存在这样的方法:不是通过检查实际已作成的掩模,而是通过检查为了生成掩模而使用的光掩模数据,提高掩模的信赖性(例如、参照JP特许第3401442号公报)。在JP特许第3401442号公报所公布的光掩模数据检验系统中,通过由CAD系统生成的CAD数据和光掩模数据分别转换成光栅数据后,再通过逐一比较上述光栅数据的像素来检验光掩模数据。通过该方法,可以防止生成有缺陷的掩模。
但是,在通过直接描绘方式制造印刷电路板的情况下,无法同掩模方式一样通过检查掩模和光掩模数据来提高印刷电路板的信赖性。因此,在通过直接描绘方式制造印刷电路板的情况下,必须检查经过直接方式的曝光工序(直接描绘工序)而实际制造的印刷电路板,或者需要在显示器画面上显示上述的曝光图案数据,并通过目视检查曝光图案数据的正确性。
然而,实际对制造印刷电路板进行检查的方法中的问题是,在印刷电路板上发现缺陷的情况下,制造该印刷电路板所要的时间和成本就被完全浪费。另外,通过目视检查曝光图案数据的方法的问题是,由于曝光图案数据的高解像度,检查作业需要大量的时间,缺陷也不容易发现。
发明内容
本发明的目的在于提供一种在通过直接描绘方式制造印刷电路板的情况下,可以比以往在更短时间内正确地检查直接描绘工序所使用的曝光图案数据的曝光图案数据检查装置,方法以及程序。
为了达成上述的目的,本发明将采用以下结构。另外,括号内的附图标记以及图编号是与附图对应的例子,并不是用于限定本发明的范围。
本发明的曝光图案数据检查装置(30)是用于检查在曝光装置(40)对印刷电路板的直接描绘工序中使用的曝光图案数据的装置,具有数据输入单元(32)、比较检查单元(34)、检查结果数据单元(38)。数据输入单元,用于输入曝光图案数据和成为该曝光图案数据的基础的设计数据。比较检查单元,用于比较上述曝光图案数据和上述设计数据,以此检查上述曝光图案数据(图3)。检查结果输出单元,用于输出上述比较检查单元的检查结果。上述数据输入单元所输入的上述设计数据包含属性信息,该属性信息表示该设计数据所示出的图案的各部分属性。比较检查单元,基于上述设计数据所包含的属性信息,按照与上述曝光图案数据所示出的图案的各部分属性对应的检查基准(图7),能够检查该部分。
另外,上述比较检查单元基于上述属性信息,能够改变上述曝光图案数据所示出的图案和上述设计数据所示出的图案的偏离容许量(图7)。
此外,在上述曝光图案数据所示出的图案的某一部分相对于上述设计数据所示出的图案的对应部分粗或细时,上述比较检查单元基于上述属性信息,能够判定是否将该部分视为缺陷。
此外,上述比较检查单元基于上述属性信息,能够判定上述曝光图案数据所示出的图案的各部分(图7)是否为下列情形之一:焊盘部分;引线部分;外框部分;实体部分。
此外,上述设计数据是矢量形式的数据,上述曝光图案数据是光栅形式的数据。
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