[发明专利]光刻胶剥离组合物和使用其剥离光刻胶膜的方法有效

专利信息
申请号: 200810092008.X 申请日: 2008-02-20
公开(公告)号: CN101256366A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 洪瑄英;朴弘植;郑钟铉;金俸均;申原硕;李智鲜;李炳珍;金炳郁;尹锡壹;金圣培;辛成健;许舜范 申请(专利权)人: 三星电子株式会社;东进瑟弥侃株式会社
主分类号: G03F7/42 分类号: G03F7/42
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 宋莉
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 光刻 剥离 组合 使用 胶膜 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻胶剥离组合物,包括:

80重量%-98.5重量%的γ-丁内酯;

1重量%-10重量%的氨基甲酸烷基酯;

0.1重量%-5重量%的烷基磺酸;和

0.1重量%-5重量%的非离子型表面活性剂。

2.权利要求1的光刻胶剥离组合物,其中该氨基甲酸烷基酯包括氨基甲酸甲酯。

3.权利要求1的光刻胶剥离组合物,其中该烷基磺酸包括选自甲基磺酸、乙基磺酸、丙基磺酸和丁基磺酸中的至少一种。

4.权利要求1的光刻胶剥离组合物,其中该非离子型表面活性剂包括选自辛基苯酚乙氧基化物和壬基苯酚乙氧基化物中的至少一种。

5.一种剥离光刻胶膜的方法,该方法包括:

向光刻胶膜提供光刻胶剥离组合物,该光刻胶剥离组合物包括:80重量%-98.5重量%的γ-丁内酯、1重量%-10重量%的氨基甲酸烷基酯、0.1重量%-5重量%的烷基磺酸和0.1重量%-5重量%的非离子型表面活性剂;

回收该光刻胶剥离组合物;和

向该光刻胶剥离组合物提供臭氧气体以从该光刻胶剥离组合物中去除杂质。

6.权利要求5的方法,进一步包括去除溶解在该光刻胶剥离组合物中残余量的臭氧气体。

7.权利要求5的方法,其中该氨基甲酸烷基酯包括氨基甲酸甲酯。

8.权利要求5的方法,其中该烷基磺酸包括选自甲基磺酸、乙基磺酸、丙基磺酸和丁基磺酸中的至少一种。

9.权利要求5的方法,其中该非离子型表面活性剂包括选自辛基苯酚乙氧基化物和壬基苯酚乙氧基化物中的至少一种。

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