[发明专利]图案化光致抗蚀剂层的形成方法

权利要求书

1.一种图案化光致抗蚀剂层的形成方法，包括：

提供基板，该基板具有上表面及下表面；

形成光致抗蚀剂层于该基板的上表面上；

提供透光层于该光致抗蚀剂层上；

提供遮光层于该透光层上；

提供曝光源，经该遮光层及该透光层后曝光该光致抗蚀剂层；以及

显影该光致抗蚀剂层以形成图案化光致抗蚀剂层，且该图案化光致抗蚀剂层与该基板具有非垂直接触角。

2.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角介于15度至85度之间。

3.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角介于95度至165度之间。

4.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角为圆弧。

5.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该光致抗蚀剂层包括正光致抗蚀剂或负光致抗蚀剂。

6.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该遮光层为掩模。

7.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该遮光层形成于该透光层上。

8.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层包括玻璃、铟锡氧化物、聚甲基丙酰酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯对二甲酸乙二醇酯、或上述的组合。

9.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层的厚度为0.1-1mm，且该非垂直接触角介于60度至85度之间或95度至115度之间。

10.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层为1-2mm，且该非垂直接触角介于45度至70度之间或110度至130度之间。

11.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层为2-3mm，且该非垂直接触角介于30度至60度之间或120度至140度之间。

12.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层为3-4mm，且该非垂直接触角介于20度至50度之间或130度至150度之间。

13.如权利要求1所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层为4-5mm，且该非垂直接触角介于15度至40度之间或140度至165度之间。

14.一种图案化光致抗蚀剂层的形成方法，包括：

提供透光基板，该透光基板具有上表面及下表面；

形成光致抗蚀剂层于该透光基板的上表面上；

提供透光层于该透光基板的下表面下；

提供遮光层于该透光层下；

提供曝光源，经该遮光层、该透光层、及该透光基板后曝光该光致抗蚀剂层；以及

显影该光致抗蚀剂层以形成图案化光致抗蚀剂层，且该图案化光致抗蚀剂层与该透光基板具有非垂直接触角。

15.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角介于15度至85度之间。

16.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角介于95度至165度之间。

17.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该非垂直接触角为圆弧。

18.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该光致抗蚀剂层包括正光致抗蚀剂或负光致抗蚀剂。

19.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该遮光层为掩模。

20.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该遮光层形成于该透光层上。

21.如权利要求14所述的图案化光致抗蚀剂层的形成方法，其中该透光层包括玻璃、铟锡氧化物、聚甲基丙酰酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯对二甲酸乙二醇酯、或上述的组合。