[发明专利]相位差补偿元件及其制造方法

权利要求书

1.一种相位差补偿元件，在基板上具备将折射率互不相同的至少2种薄膜层叠后的多层结构的相位差补偿层，并且使所入射的光线发生对应于入射角的负的相位延迟，其特征在于，

上述相位差补偿层，由第1单元层和第2单元层的组合构成，该第1单元层，是在上述基板侧层叠上述至少2种薄膜的多层结构，该第2单元层，是在该第1单元层上层叠上述至少2种薄膜的多层结构，并且，按照对于所入射的光线的方位角，上述第2单元层具有的相位延迟的发生分布特性大致正交于上述第1单元层所具有的相位延迟的发生分布特性的方式，使形成有上述第1单元层的基板旋转90°后，使上述第2单元层层叠。

2.一种相位差补偿元件，在透明的基板上具备将折射率互不相同的至少2种薄膜层叠后的多层结构的相位差补偿层，并且使所入射的光线发生对应于入射角的负的相位延迟，其特征在于，

上述相位差补偿层，由第1单元层和第2单元层的组合构成，该第1单元层，是在上述基板的一面将上述至少2种薄膜交替层叠的多层结构，该第2单元层，是在上述基板的另一面将上述至少2种薄膜层叠的多层结构，并且，按照对于所入射的光线的方位角，上述第2单元层具有的相位延迟的发生分布特性大致正交于上述第1单元层具有的相位延迟的发生分布特性的方式，使形成有上述第1单元层的基板旋转90°后，使上述第2单元层层叠。

3.根据权利要求1或2所述的相位差补偿元件，其特征在于，

构成上述第1单元层的多层结构和构成第2单元层的多层结构，是相同的膜构成。

4.根据权利要求3所述的相位差补偿元件，其特征在于，

构成上述第1及第2单元层的至少2种薄膜的至少一个，是在氧化环境中被成膜的氧化膜或成膜后被暴露于氧气环境中而被氧化的氧化膜。

5.一种相位差补偿元件的制造方法，在真空室内收容基板和至少2种薄膜材料，从上述薄膜材料依次放射粒子堆积在上述基板，在上述基板上形成层叠了折射率互不相同的至少2种薄膜的多层结构的相位差补偿层，使通过上述相位差补偿层的光线发生对应于入射角的负的相位延迟，其特征在于，

将上述至少2种薄膜层叠至上述相位差补偿层的中间为止而形成第1单元层后，将上述基板相对其法线旋转90°后，层叠上述至少2种薄膜，形成与上述第1单元层协同构成上述相位差补偿层的第2单元层。

6.一种相位差补偿元件的制造方法，在真空室内收容基板和至少2种薄膜材料，从上述各薄膜材料单独地放射粒子堆积在上述基板，在上述基板上形成层叠了折射率互不相同的至少2种薄膜的多层结构的相位差补偿层，使通过上述相位差补偿层的光线发生对应于入射角的负的相位延迟，其特征在于，

在上述基板的一面将上述至少2种薄膜层叠至上述相位差补偿层的中间为止而形成第1单元层，然后将上述基板相对其法线旋转90°并且使其表面背面翻转，在上述基板的背面层叠上述至少2种薄膜，形成与上述第1单元层协同构成上述相位差补偿层的第2单元层。

7.根据权利要求5所述的相位差补偿元件的制造方法，其特征在于，

将构成上述第1单元层的多层结构和构成第2单元层的多层结构，形成为相同的膜构成。

8.根据权利要求6所述的相位差补偿元件的制造方法，其特征在于，

将构成上述第1单元层的多层结构和构成第2单元层的多层结构，形成为相同的膜构成。

9.根据权利要求7所述的相位差补偿元件的制造方法，其特征在于，

构成上述第1及第2单元层的至少2种薄膜的至少一个，是在氧化环境中被成膜的氧化膜或成膜后被暴露于氧气环境中而被氧化的氧化膜。

10.根据权利要求8所述的相位差补偿元件的制造方法，其特征在于，

构成上述第1及第2单元层的至少2种薄膜的至少一个，是在氧化环境中被成膜的氧化膜或成膜后被暴露于氧气环境中而被氧化的氧化膜。

11.根据权利要求5～10中任一项所述的相位差补偿元件的制造方法，其特征在于，

将构成上述第1及第2单元层的至少2种薄膜通过溅射进行成膜。