[发明专利]对作公转运动的零部件进行润滑的方法以及一种行星式抛磨盘

说明书

技术领域

本发明涉及对机械运动机构进行润滑的方法，特别是对作公转运动的零部件进行润滑的方法，以及采用该润滑方法的行星式抛磨盘。

背景技术

在机械领域中有些运动机构的特点是多个零部件一起围绕一根中轴线进行公转运动，例如用于对陶瓷砖、石板等进行抛光、涂抹作业的行星式抛磨盘，其结构中就有多个行星齿轮一边自转一边围绕一根主轴公转。对于这类公转运动机构的润滑方式，现有技术主要有两种，一种是人工润滑方式，这种方式的有效润滑期短，需要靠人工定期加注润滑油，维护麻烦，例如对于上述的行星式抛磨盘，其行星齿轮较多，定期为多个行星齿轮加注润滑油是一件非常麻烦的工作；另一种是油浸润滑方式，这种润滑方式虽然具有较长的有效润滑期，但所需润滑油较多，对油密封性要求较高，增加了公转运动机构的复杂性和重量。

发明内容

本发明的目的是提供一种作公转运动的零部件进行润滑的方法，这种方法可兼具有人工润滑和油浸润滑两种润滑方式的优点，本发明的另一目的是提供一种采用所述润滑方法的行星式抛磨盘，以提高行星式抛磨盘的润滑性能。

为此，本发明所述的润滑方法，是将作公转运动的多个零部件安装在一个盛油盘上，盛油盘随着所述零部件的公转而自转，盛油盘自转的中轴线与所述零部件公转运动的中轴线共线，在盛油盘上设置有包围着所述零部件的挡板，利用挡板阻挡盛油盘上的油液朝离心方向流动，使得油液在离心力作用下挤压堆积在挡板侧壁上，在盛油盘上安装有甩油轮，甩油轮靠近挡板的阻挡油液的一侧，利用甩油轮的自转运动将堆积在挡板侧壁上的油液向四周甩开，利用飞溅的油液对所述的作公转运动的多个零部件进行润滑。由于本发明方法利用甩油轮将油液不断地洒向各零部件，从零部件上滴落到盛油盘上的润滑油又会在离心力作用下重新堆积在挡板的侧壁上，形成连续的油液循环流动，所以具有油浸润滑的优点，可以使零部件得到长期有效的润滑；另一方面，由于本发明方法利用离心力将油液堆积在挡板侧壁上，因此只需在盛油盘上装载少量润滑油即可满足润滑油液面高度的要求，所需油量大大小于油浸润滑，具有人工润滑的耗油量少的优点。

本发明所述的行星式抛磨盘采用了上述润滑方法，其结构包括一个大转盘，大转盘上安装有多个位于大转盘下方的行星磨轮，行星磨轮一边自转一边随着大转盘的转动而围绕大转盘的中轴线公转，驱动行星磨轮自转的多个零部件位于大转盘的上方，并且也随着大转盘的转动而围绕大转盘的中轴线公转，行星磨轮的转轴贯穿大转盘，行星磨轮的转轴上套接有与大转盘固定连接的轴承座，特别地，所述大转盘是一个盛装润滑油的盛油盘，在大转盘上设置有挡板，挡板围成包围圈，将所述的驱动行星磨轮自转的多个零部件包围于其内，在大转盘上安装有甩油轮，甩油轮靠近挡板的阻挡油液朝离心方向流动的一侧侧壁。该行星式抛磨盘的润滑原理与前述发明方法的工作原理相同：利用甩油轮的自转运动将油液洒向驱动行星磨轮自转的零部件，从这些零部件滴落到大转盘上的润滑油在离心力作用下重新堆积在挡板的侧壁上，形成连续的油液循环流动，使零部件得到长期有效的润滑；由于大转盘上的油液依靠离心力堆积在挡板侧壁上，所以只需在大转盘上装载少量润滑油即可使甩油轮与润滑油接触，所需油量小。由此可见，本发明行星式抛磨盘兼具有人工润滑和油浸润滑两种润滑方式的优点，提高了行星式抛磨盘的润滑性能。

本发明方法的优点是适用面广，无论作公转运动的零部件具体结构是什么，只要盛油盘有足够的转速将油液堆积在挡板侧壁上，而且飞溅的润滑油能够使零部件得到润滑，就可以适用本发明方法。本发明方法特别适用于在水平面上作公转运动，而且公转速度较高的公转运动机构。本发明的行星式抛磨盘延长了使用寿命，并可免去人工定期加注润滑油的麻烦，有利于提高行星式抛磨盘的工作效率。

附图说明

图1是本发明方法的工作原理示意图；

图2是本发明行星式抛磨盘的机构运动简图；

图3是图2中的驱动行星磨轮自转的多个零部件的一种具体结构示例；

图4是在图2基础上进一步改进后的结构示意图；

图5是图4的A部放大图。

具体实施方式