[发明专利]使用单一数据处理单元的多重工具

权利要求书

1.一种用于直接写入图案的系统，其特征在于其包括：

多个直接写入曝光单元；以及

一单一数据处理单元，耦接在每一上述直接写入曝光单元，该单一数 据处理单元配置为送出相同的一写入指令至每一上述直接写入曝光单元，

其中该直接写入曝光单元写入每一基材的步骤实质上为同步实施。

2.根据权利要求1所述的用于直接写入图案的系统，其特征在于其还 包括：

至少一输入匣盒，耦接于每一上述直接写入曝光单元；以及

至少一输出匣盒，耦接于每一上述直接写入曝光单元。

3.根据权利要求2所述的用于直接写入图案的系统，其特征在于其还 包括：

一输入缓冲匣盒，位于每一该至少一输入匣盒与每一上述直接写入曝 光单元之间；以及

一输出缓冲匣盒，位于每一该至少一输出匣盒与每一上述直接写入曝 光单元之间。

4.根据权利要求1所述的用于直接写入图案的系统，其特征在于其还 包括一次数据处理单元，该次数据处理单元耦接在每一上述直接写入曝光 单元，该次数据处理单元配置为用于控制并根据接收来自该单一数据处理 单元的控制信号而微调影像束。

5.根据权利要求1所述的用于直接写入图案的系统，其特征在于其中 所述的每一上述直接写入曝光单元包括：

一选择性可移动基材座；一曝光源；以及

一装置，用于集中来自该曝光源的一影像束并使该影像束投射到位于 该选择性可移动基材座的一基材上。

6.一种直接写入丛集工具，其特征在于其包括：

至少两个直接写入曝光单元；

一主数据处理单元，耦接于每一上述直接写入曝光单元；以及

一输入缓冲匣盒与一输出缓冲匣盒，该输入缓冲匣盒与该输出缓冲匣 盒耦接在每一上述直接写入曝光单元，

其中，该主数据处理单元配置为用于送出相同的一写入指令至每一上 述直接写入曝光单元，

其中该直接写入曝光单元写入每一基材的步骤实质上为同步实施。

7.根据权利要求6所述的直接写入丛集工具，其特征在于其还包括一 输入匣盒与一输出匣盒，该输入匣盒耦接于该输入缓冲匣盒，该输入缓冲 匣盒位于该输入匣盒与该直接写入曝光单元之间，并且该输出匣盒耦接于 该输出缓冲匣盒，该输出缓冲匣盒位于该直接写入曝光单元与该输出匣盒 之间。

8.根据权利要求6所述的直接写入丛集工具，其特征在于其还包括一 次数据处理单元，该次数据处理单元耦接在每一上述直接写入曝光单元与 该主数据处理单元，该次数据处理单元配置为用于控制并依据接收来自该 主数据处理单元的一控制信号而微调影像束。

9.一种处理多片基材的方法，其特征在于其包括下列步骤：

多个直接写入曝光单元接收上述基材；

耦接于每一上述直接写入曝光单元的一主数据处理单元产生一写入指 令；

传送相同的该写入指令至每一上述直接写入曝光单元；以及

依据该写入指令，该直接写入曝光单元写入每一上述基材，

其中该直接写入曝光单元写入每一上述基材的步骤实质上为同步实 施。

10.根据权利要求9所述的处理多片基材的方法，其特征在于其还包 括：处理一批基材使该批基材经由一输入缓冲匣盒与一输出匣盒而通过上 述直接写入曝光单元，该输入缓冲匣盒与该输出匣盒耦接每一上述直接写 入曝光单元。

11.根据权利要求9所述的处理多片基材的方法，其特征在于其中所 述的传送该写入指令至每一上述直接写入曝光单元的步骤还包括一次数据 处理单元接收该写入指令，该次数据处理单元耦接于上述直接写入曝光单 元的个别的直接写入曝光单元，该次数据处理单元配置为依据来自该主数 据处理单元的一控制信号而控制并微调影像束。

12.一种用于直接写入工艺的系统，其特征在于其包括：

至少两个设备，用于直接写入曝光多片基材；

一处理控制设备，耦接在用于直接写入曝光上述基材的每一上述设备 以直接写入曝光上述基材；以及

一基材缓冲设备，耦接在用于直接写入曝光上述基材的每一上述设备 以直接写入曝光基材；

其中，该处理控制设备配置为用于送出相同的一写入指令至耦接在用 于直接写入曝光上述基材的每一上述设备以直接写入曝光上述基材，其中 上述设备写入每一上述基材的步骤实质上为同步实施。