[发明专利]光刻设备和方法

权利要求书

1.一种适用于光刻设备中的投影系统，所述投影系统包括：

透射式光学元件；以及

热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件 的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部 件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以 将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件，其中所述热 分布调节器包括至少一个加热板，

其中所述加热板或每个加热板包括可独立寻址的电加热器的阵列。

2.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述热分布调节器包括一对 加热板，所述加热板相互间隔地布置，以使得所述传递部件可以置于所述 加热板之间。

3.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述可独立寻址的电加热器 被布置用于将热量传递给所述传递部件的选择的离散区域。

4.根据权利要求3所述的投影系统，还包括控制器，所述控制器配置 用于选择用于热传递的所述离散区域。

5.根据权利要求4所述的投影系统，其中所述控制器配置用于相对于 图案化的辐射束的相图选择用于热传递的所述离散区域。

6.根据权利要求4所述的投影系统，其中所述控制器配置用于相对于 所述投影系统的模型选择用于热传递的所述离散区域。

7.根据权利要求4所述的投影系统，其中所述控制器被设置在所述热 分布调节器中或与所述热分布调节器相邻的位置上。

8.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述传递部件包括冷却器。

9.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述投影系统包括两个透射 式光学元件。

10.根据权利要求9所述的投影系统，其中所述传递部件可移动到所 述两个透射式光学元件之间的位置和从所述位置移开。

11.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述传递部件可移动到与 所述透射式光学元件相关联的光瞳平面上。

12.根据权利要求1所述的投影系统，还包括第二传递部件。

13.根据权利要求12所述的投影系统，其中所述传递部件和第二传递 部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开， 以将所需的热分布从所述热分布调节器传递到所述透射式光学元件中。

14.根据权利要求13所述的投影系统，其中所述传递部件和第二传递 部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开， 以使得当处于所述透射式光学元件附近时，所述透射式光学元件位于所述 传递部件和所述第二传递部件之间。

15.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述透射式光学元件是透 镜。

16.根据权利要求1所述的投影系统，其中所述透射式光学元件是对 一定波长的辐射透明的材料的扁平片。

17.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射系统，所述照射系统配置用于调节辐射束；

支撑结构，所述支撑结构构建用于支撑图案形成装置，所述图案形成 装置能够将图案赋予经过调节的辐射束的横截面，以形成图案化的辐射 束；

衬底台，所述衬底台构建用于保持衬底；以及

投影系统，所述投影系统包括透射式光学元件，并配置用于将图案化 的辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影系统包括：

热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件 的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部 件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以 将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件；

其中所述热分布调节器包括至少一个加热板，所述加热板或每个加热 板包括可独立寻址的电加热器的阵列。