[发明专利]用于改进形状记忆合金与聚合物之间粘附力的方法有效
申请号: | 200810095190.4 | 申请日: | 2008-02-22 |
公开(公告)号: | CN101260193A | 公开(公告)日: | 2008-09-10 |
发明(设计)人: | L·G·小赫克托尔;A·M·曼斯;W·R·罗杰斯;P·D·扎瓦蒂里;D·A·奥康斯基;E·谢尔曼;W·巴沃萨-卡特 | 申请(专利权)人: | 通用汽车环球科技运作公司 |
主分类号: | C08J5/12 | 分类号: | C08J5/12;C23F1/02;B29C70/70 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 周铁;韦欣华 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 改进 形状 记忆 合金 聚合物 之间 粘附 方法 | ||
1.一种改进形状记忆合金和聚合材料间粘附力的方法,包括:
使形状记忆合金的表面与含有含磷化合物的溶液接触;以及
将形状记忆合金嵌入到聚合材料中。
2.根据权利要求1的方法,还包括在使形状记忆合金表面与含有含磷化合物的溶液接触前,用酸性溶液从该表面移除氧化物/氢氧化物层,并在形状记忆合金表面上形成新的氧化物/氢氧化物层。
3.根据权利要求1的方法,其中含磷化合物包含反应性官能团。
4.根据权利要求3的方法,其中反应性官能团与聚合材料相互作用。
5.根据权利要求1的方法,其中含有含磷化合物的溶液包含单体膦酸、单体次膦酸、聚合的膦酸、或含上述酸中至少一种的混合物。
6.根据权利要求5的方法,其中单体膦酸通常定义为式Rm[PO(OH)]n,其中R是总共具有1-30个碳原子的一个或多个自由基;m是分子中自由基的数目,其范围是1-10;n是分子中膦酸基团的数目,其范围是1-10。
7.根据权利要求5的方法,其中单体次膦酸通常定义为式RmR’o[PO(OH)]n,其中R是总共具有1-30个碳原子的一个或多个自由基;m是分子中R自由基的数目,其范围是1-10;R’可以是氢,还可以由含1-30个碳原子的自由基组成;o是R’自由基的数目,其范围是1-10;n是分子中次膦酸基团的数目,其范围是1-10。
8.根据权利要求1的方法,其中含有含磷化合物的溶液包括苯基膦酸的水溶液。
9.根据权利要求2的方法,其中酸溶液包含无机酸的水溶液。
10.根据权利要求1的方法,其中形状记忆合金包括镍钛合金。
11.根据权利要求1的方法,进一步包括在形状记忆合金表面与含有含磷化合物的溶液接触前纹饰该表面。
12.一种改进形状记忆合金和聚合材料间粘附力的方法,包括:
纹饰形状记忆合金的表面;以及
将形状记忆合金嵌入到聚合材料中。
13.根据权利要求12的方法,进一步包括在嵌入前使形状记忆合金的表面与包含有机硅烷化合物的溶液接触。
14.根据权利要求12的方法,其中纹饰所述表面包括形成峰和谷。
15.根据权利要求14的方法,其中在形状记忆合金表面形成峰和谷包括掩盖对应于峰的部分并刻蚀未掩盖的部分以形成谷。
16.根据权利要求12的方法,其中纹饰所述表面包括通过使用掩模材料用氧化物蚀刻剂过刻蚀所述表面,使用掩模材料电化学刻蚀,使用反电极电化学刻蚀,机械加工,电弧放电加工,高强度超声处理,以及它们的结合。
17.根据权利要求12的方法,其中纹饰包括塑性变形或永久变形至少一部分的形状记忆合金以形成与聚合材料的机械互锁。
18.一种改进形状记忆合金和聚合材料间粘附力的方法,包括:
纹饰形状记忆合金的表面以形成纹饰的表面;
使形状记忆合金的纹饰表面与含有含磷化合物或硅烷偶联剂的溶液接触;以及
将形状记忆合金嵌入到聚合材料中。
19.根据权利要求18的方法,还包括在使形状记忆合金表面与含有含磷化合物的溶液接触前,用酸性溶液从该表面移除氧化物/氢氧化物层,并在形状记忆合金表面上形成新的氧化物/氢氧化物层。
20.根据权利要求18的方法,其中含有含磷化合物的溶液包含单体膦酸、单体次膦酸、聚合的膦酸、或含上述酸中至少一种的混合物。
21.根据权利要求18的方法,其中纹饰所述表面包括形成峰和谷。
22.根据权利要求21的方法,其中在形状记忆合金表面形成峰和谷包括掩盖对应于峰的部分并刻蚀未掩盖的部分以形成谷。
23.根据权利要求17的方法,其中纹饰表面包括通过使用掩模材料用氧化物蚀刻剂过刻蚀该表面,使用掩模材料或反电极电化学刻蚀,机械加工,电弧放电加工,高强度超声处理,以及它们的结合。
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